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日立分析儀器(上海)有限公司

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上海精科721G-100可見分光光度計(jì)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 上海拓西電子科技有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間 2024/7/30 8:48:50
  • 訪問次數(shù) 2733

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上海拓西電子科技有限公司成立于2014年9月,扎根于魔都上海奉賢區(qū),具有得天獨(dú)厚的外部環(huán)境,公司主要生產(chǎn)/經(jīng)銷/批發(fā)是一家專業(yè)從事儀器儀表的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售及服務(wù)于一體的企業(yè)?,F(xiàn)主導(dǎo)產(chǎn)品包括水分檢測(cè)儀(木材、紙張、煤炭、化工、油類、地面、泡沫、氣體等水分),實(shí)驗(yàn)室儀器(培養(yǎng)箱、移液器、離心機(jī)、磁力攪拌器、電子天平等),環(huán)境儀器(溫濕度記錄儀、二氧化碳檢測(cè)儀、濁度儀等),等系列產(chǎn)品。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于學(xué)校、木材、化工、鋼鐵、煤炭、環(huán)保、水利、制藥、造紙、食品、機(jī)械及公共事業(yè)等領(lǐng)域 。客戶遍及全國各省、市、自治區(qū)、直轄市,以優(yōu)秀的產(chǎn)品質(zhì)量與優(yōu)秀的服務(wù)贏得廣大用戶的好評(píng)。
公司一向堅(jiān)持“誠信為本”的原則 , 注重產(chǎn)品創(chuàng)新、產(chǎn)品質(zhì)量和技術(shù)服務(wù)。公司致力于將較早科學(xué)技術(shù)應(yīng)用到儀器儀表的同時(shí),還努力從客戶那里獲取產(chǎn)品改進(jìn)的意見和建議,使我們的產(chǎn)品能夠更好地滿足用戶需求。多年來與廣大客戶建立起了共贏互利的合作關(guān)系,使公司得以健康快速發(fā)展壯大。
服務(wù)理念:質(zhì)量在我手中 , 客戶在我心中
質(zhì)量方針:依靠*科學(xué)技術(shù)
培養(yǎng)員工良好素質(zhì)
建立有效質(zhì)保體系
提供客戶滿意產(chǎn)品
爭(zhēng)創(chuàng)行業(yè)優(yōu)秀企業(yè)
企業(yè)宗旨: 技術(shù)追求創(chuàng)新 產(chǎn)品追求* 服務(wù)追求客戶滿意!

 

 

電子天平、水分檢測(cè)儀、培養(yǎng)箱、移液器

721G-100型可見分光光度計(jì)基本原理:
◆分光光度計(jì)分析法是基于不同分子結(jié)構(gòu)的物質(zhì)對(duì)電磁輻射選擇性吸收而建立的分析方法。
◆應(yīng)用電磁輻射波譜區(qū)通常在330nm~800nm為可見分光光度計(jì)。
721G-100型可見分光光度計(jì)應(yīng)用:
采用微處理機(jī)控制技術(shù),在可見光譜區(qū)域內(nèi)對(duì)物質(zhì)作定性、定量分析,是常規(guī)實(shí)驗(yàn)室*的多用途分析儀器,應(yīng)用于醫(yī)療衛(wèi)生、臨床檢驗(yàn)、生物化學(xué)、石油化工、環(huán)境保護(hù)、質(zhì)量控制及大專院校教學(xué)實(shí)驗(yàn)室等部門。
721G-100型可見分光光度計(jì)產(chǎn)品特點(diǎn):
◆具有背光式LCD顯示屏,讀數(shù)清晰明暸。具用*的全息閃耀光柵C-T式單色器,具有波長(zhǎng)精度高,單色性好,雜散光低等優(yōu)點(diǎn)。
◆測(cè)試樣品室加寬,可用10cm,糖業(yè)、電業(yè)、水廠、化工等行業(yè)測(cè)含量低的溶液。
◆采用*的全息閃耀光刪C-T式單色器,具有波長(zhǎng)精度高,單色性好,雜散光低等優(yōu)點(diǎn)。
◆采用微機(jī)測(cè)量系統(tǒng),T-A轉(zhuǎn)換精度高,并有自動(dòng)調(diào)整0%(T)和調(diào)整100%(T),濃度直讀、濃度因子 設(shè)定,并可選擇串行數(shù)據(jù)打印機(jī)進(jìn)行數(shù)據(jù)打印功能。
◆測(cè)量讀數(shù)準(zhǔn)確性高,重現(xiàn)性和穩(wěn)定性佳。
◆可選配打印機(jī)。
◆UVWin7軟件包(需另購)。
721G-100型可見分光光度計(jì)技術(shù)參數(shù):
長(zhǎng)范圍:
340nm~1000nm
長(zhǎng)zui大允許誤差:
±2nm
長(zhǎng)重復(fù)性:
≤1nm
射比zui大允許誤差:
±0.5%(T)
射比重復(fù)性:
≤0.2%(T)
譜帶寬:
5nm
散光:
≤0.5%(T)(在360nm處,以NaNO2測(cè)定)
 
 
 
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