電子級硫酸

英文名：Sulfuric Acid，分子式：H₂SO₄，硫的重要的含氧酸，無水硫酸為無色油狀液體，10.36℃時結晶，沸點338℃，相對密度為1.84。硫酸是一種活潑的二元無機強酸，能和絕大多數(shù)金屬發(fā)生反應。高濃度的硫酸有強烈吸水性，可用作脫水劑，碳化木材、紙張、棉麻織物及生物皮肉等含碳水化合物的物質(zhì)。與水混合時，亦會放出大量熱能。其具有強烈的腐蝕性和氧化性，故需謹慎使用。

*，電子級硫酸又稱高純硫酸、超純硫酸，屬于超凈高純試劑，是一種微電子技術發(fā)展過程中*的關鍵基礎化學試劑。目前廣泛應用于大規(guī)模集成電路(IC)、半導體等微電子工業(yè)，用作清洗和蝕刻劑.隨著中國微電子工業(yè)的高速發(fā)展，電子級硫酸的需求量日益增加，供不應求，電子級硫酸有著良好的應用前景.

電子級硫酸主要應用于電子硅晶片生產(chǎn)過程的清洗和蝕刻。

硅圓片在加工過程中，常常會被不同的雜質(zhì)所沾污，可引起大規(guī)模集成電路產(chǎn)率下降50%左右。硅圓片上不溶性固體顆?；蚪饘匐x子可能在微細電路之間導電，使之短路，幾個金屬離子或灰塵足以使線寬較小的大規(guī)模集成電路報廢。

Na、Ca等堿金屬雜質(zhì)會融進氧化膜中，導致耐絕緣電壓下降。當硅圓片表面附著有Cu、Fe、Cr、Ag等重金屬雜質(zhì)時，會使P—N結耐電壓降低，影響大規(guī)模集成電路電性能。硼、磷、砷等雜質(zhì)離子會影響擴散劑的擴散效果，塵埃顆粒會造成光刻缺陷，氧化層不平整，影響制版質(zhì)量和等離子蝕刻工藝。

為了獲得高質(zhì)量、高產(chǎn)率的集成電路芯片，必須除去各種沾污物，這就需要使用非常純凈的化學試劑來清洗硅圓片，硫酸和過氧化氫按比例組成有強氧化性的SPM清洗液，在120～150℃下對硅片進行清洗時，可將金屬氧化后溶于溶液中，并能把有機物氧化成CO2和H2O。它還可用于光刻過程中的濕法蝕刻去膠，借助于化學反應從硅圓片的表面除去固體物質(zhì)，導致固體表面全部或局部溶解。

 E-Scan系列電子級硫酸濃度分析儀可以安裝在不同管徑的管道或者罐體容器壁上，進行濃度監(jiān)測和控制，可以直接顯示質(zhì)量百分比（Percent)、固形物含量(S.G.)、密度(T.T.A)或用戶自定義的單位，現(xiàn)場顯示并可以模擬信號（RS232)遠傳至電腦進行即時數(shù)據(jù)存儲、打印、追溯等功能；通過 4-20mA信號遠傳至 PLA/DCS /變頻器進行監(jiān)控或控制。

 E-Scan系列硫酸濃度分析儀擁有以下特征：
PTFE材質(zhì)的傳感器使其滿足化工、半導體行業(yè)的要求并且耐溫高達150℃；
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防護等級：NEMA4X(IP67）；
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多組4-20ma 模擬信號及數(shù)字信號輸出（隔離，非隔離可選）；
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