GL Plasma等離子體清洗設(shè)備
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱(chēng) 青島天仁微納科技有限責(zé)任公司
- 品牌 天仁微納
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/5/13 14:50:00
- 訪問(wèn)次數(shù) 872
產(chǎn)品標(biāo)簽
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產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
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GL Plasma等離子體清洗設(shè)備主要應(yīng)用于活化,提升附著力和清洗等工藝。
GL Plasma等離子體清洗設(shè)備相關(guān)參數(shù)
●適用于大300mm直徑以下晶圓或者330×400mm基材(軟工作模具基材)
●適用于清洗納米壓印基底表面
●適用于納米壓印基底表面增粘、激活、改性
●適用于增加工作模具基材與模具復(fù)制材料粘附性