PISC系列等離子體增強純離子鍍膜設(shè)備

一、設(shè)備功能簡介

1、純離子鍍膜源，采用高效電磁過濾系統(tǒng)，有效祛除顆粒，獲得更高純度的離子束流，幫助提升涂層基礎(chǔ)硬度及結(jié)合力；

2、高能離子束清洗源，采用特殊設(shè)計的放電結(jié)構(gòu)，有效兼容了等離子清洗活化、輔助電離、獨立沉積等功能;

3、磁控濺射源，采用創(chuàng)新的磁場設(shè)計，有效提升靶材利用率30%以上;

4、磁約束氣相沉積源，可靠且易于維護的結(jié)構(gòu)，可以實現(xiàn)快速而又細膩的涂層沉積。

二、主要特點及技術(shù)優(yōu)勢

1、等離子體增強純離子鍍膜設(shè)備可實現(xiàn)TAC-DLC的組合，比單純CVD的結(jié)合力大幅度提升，同時降低了PVD的顆粒度，縮短工藝時間;

2、可實現(xiàn)多種工藝C膜沉積，純離子鍍TAC，磁約束放電DLC，陽極層離子源鍍DLC等;

3、設(shè)有電磁掃描裝置和軟件，可定點定時控制等離子體的束流方向，極大改善了鍍膜均勻性問題，整爐膜層均勻性控制±5%以下;

4、優(yōu)化的磁場設(shè)計及冷卻設(shè)計，維護方便，設(shè)備穩(wěn)定性好;

5、友好的人機界面，實時記錄工藝數(shù)據(jù)，利于質(zhì)量管控、疑難分析、開發(fā)新工藝等;

6、本項目為交鑰匙設(shè)備，純源公司提供整套解決方案，包括穩(wěn)定成熟鍍膜配方。

三、設(shè)備參數(shù)

四、膜層系列

典型涂層類型:

(1)Me-TAC，金屬TAC復合涂層，應(yīng)用廣泛；

(2)Me-DLC，金屬DLC復合涂層，應(yīng)用廣泛；

(3)Me-TAC-DLC，TAC-DLC復合涂層，獲得TAC更高基礎(chǔ)硬度與結(jié)合力的同時，兼有DLC的沉積速率及細膩外觀。

五、應(yīng)用領(lǐng)域

1、高校及科研院所；

2、特殊功能零部件；

3、工業(yè)領(lǐng)域：切削工具、注塑模具、紡織零配件等。

注明：以上數(shù)據(jù)來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-材料實驗室-檢測結(jié)果