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感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)ICPRIE由射頻電源感應(yīng)產(chǎn)生等離子體,以產(chǎn)生各向異性蝕刻。在基本ICP-RIE蝕刻系統(tǒng)中，射頻直接連接到用作電極的樣品臺(tái)，產(chǎn)生各向同性等離子體。ICPRIE刻蝕系統(tǒng)有時(shí)被稱為桶型蝕刻機(jī)。
最初的ICP反應(yīng)器由石英管組成，射頻線圈纏繞在石英管周?chē)?，以產(chǎn)生等離子體，從而產(chǎn)生各向異性蝕刻。感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)ICPRIE有多種類(lèi)型，其中一種重要類(lèi)型是將電容耦合偏壓與樣品臺(tái)相結(jié)合，以實(shí)現(xiàn)電感耦合RF等離子體蝕刻特性的工藝控制。應(yīng)用包括電介質(zhì)材料的干蝕刻。
感應(yīng)耦合反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)ICPRIE詳情請(qǐng)聯(lián)系我們索取。

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