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這款高溫氣體光譜測試爐是為高溫氣體光譜測量分析設計的高溫氣密光學爐。
這款高溫氣體光譜測試爐具有光學通道、用于光譜分析的氣體室和高溫實驗設施,可根據要求提供快速加熱速率，溫度可達1500°C。
這款高溫氣體光譜測試爐可提供氣密性，在紫外、可見光和紅外IR光譜區(qū)域有光通路，隨時可用于高溫氣體性能測試驗。
圖示：高溫氣體光譜測試爐結構組成
這款高溫氣體光譜測試爐是為高溫氣體光譜測量分析設計的高溫氣密光學爐。
這款高溫氣體光譜測試爐具有光學通道、用于光譜分析的氣體室和高溫實驗設施,可根據要求提供快速加熱速率，溫度可達1500°C。
這款高溫氣體光譜測試爐可提供氣密性，在紫外、可見光和紅外IR光譜區(qū)域有光通路，隨時可用于高溫氣體性能測試驗。
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