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海德創(chuàng)業(yè)(北京)生物科技有限公司

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供求商機(jī)

EMS 150T-鍍膜儀(鍍碳儀、噴金儀、離子濺射鍍膜儀)

  • 發(fā)布日期:
  • 有效日期:
  • 所 在 地:
  • 產(chǎn)  地:
  • 已獲點(diǎn)擊:

  • 2025年2月22日
  • 2025年8月22日
  • 北京北京市
  • 美國(guó)
  • 3417次

【產(chǎn)品簡(jiǎn)介】



【詳細(xì)說(shuō)明】

EMS150T S高分辨率離子濺射儀High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater
 
型號(hào):EMS150T  S
簡(jiǎn)介:
分子渦輪高真空系統(tǒng),CPU程序全自動(dòng)控制,觸膜屏用戶界面,可鍍多種膜材,也可鍍相對(duì)較厚的膜。具有快速濺射易氧化和不氧化金屬(貴金屬)靶材的功能,可選各種濺射靶材,包括常用于場(chǎng)發(fā)射電鏡的銥和鉻。

 

可選配一系列可選附件,如:金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測(cè)量等。
標(biāo)準(zhǔn)配置的樣品臺(tái),無(wú)傾角,高度不可調(diào)。如果需要傾斜樣平臺(tái),需要另外選擇。
 
  • 主要技術(shù)指標(biāo):
    尺寸和重量:儀器機(jī)箱:585mm寬x 470mm長(zhǎng) x 410mm高 (總高: 650mm)
  • 儀器總重量:33.4Kg
  • 工作腔室:硼硅酸鹽玻璃,152mm(內(nèi)) x 127mm高
  • 觸摸屏全圖像用戶界面
  • 樣品臺(tái):標(biāo)配件(無(wú)傾角,高度不可調(diào)) ,轉(zhuǎn)速8-20rpm
  • 真空系統(tǒng):
              渦輪分子泵:帶有空氣冷卻的渦輪分子泵(標(biāo)準(zhǔn)配置里面)
              旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵:雙級(jí)旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵(需要另購(gòu))
  • 真空度: 5x10-3-----5x10-1 mbar  
  • 濺射時(shí)間:zui長(zhǎng)60分鐘
  • 濺射靶材:57mm Ø x 0.3mm Chromium(標(biāo)準(zhǔn)配置:鉻靶材一個(gè))
產(chǎn)品選購(gòu)
貨號(hào)
產(chǎn)品名稱
規(guī)格
3380
EMS150T S - High resolution turbomolecular pumped sputter coater, including a  54mm Ø x 0.3mm chromium target
標(biāo)準(zhǔn)配置
91003
Edwards RV3 50L/s two-stage rotary pump, with vacuum hose, coupling kit and oil mist filter
個(gè)
 
其它附件的選購(gòu):
 
貨號(hào)
產(chǎn)品名稱
規(guī)格
3200
Sputtering head insert suitable for oxidizing and non-oxidizing metals. Supplied with a 54mm x 0.3mm thick chromium target as standard. For additional targets see Sputtering Targets section
個(gè)
3210
Additional sputter insert for quick metal change. Note: this is an entire sputtering assembly.
個(gè)
3270
Extended height vacuum chamber (214mm high – the standard chamber is 127mm high). For increased source to sample distance and for coating large specimens
個(gè)
3280
Vacuum spigot allows more convenient connection of the vacuum hose to the rear of the EMS150T when bench depth is limited
個(gè)
3290
Film thickness monitor (FTM) attachment. Consists of a built in chamber mounted quartz crystal oscillator (includes crystal). As sputtered or evaporated material is deposited onto the crystal, so its frequency of oscillation is modified. This ‘modification’ is used to measure and control the thickness of material deposited
個(gè)
3300
Spare quartz crystals. Pack of three
個(gè)
3320
Full range vacuum gauge for low and high vacuum measurement (a low vacuum Pirani gauge is fitted as standard)
個(gè)
4513
Glow discharge insert to modify surface properties (eg hydrophobic to hydrophilic conversion) or to clean surface residues (TS and T ES only). Can be retrofitted
個(gè)
3340
Rotate-tilt specimen stage with adjustable tilt (up to 90 degrees) and height (37mm-60mm). Tilt angle can be pre-set. 50mm Ø specimen platform with six stub positions for 15mm or 6.5mm or 1/8" pin stubs. Stage rotation speed variable between 8 and 20rpm
個(gè)
3350
Variable angle “Rotacota” rotary planetary stage with 50mm Ø specimen platform. Has six stub positions for 15mm or 6.5mm or 1/8" pin stubs. Stage rotation speed variable between 8 and 20rpm
個(gè)
3360
Flat rotation specimen stage for 100mm / 4” wafers, includes gearbox for increased coverage. Stage rotation speed variable between 8 and 20rpm
個(gè)
3370
variable between 8 and 20rpm. Includes gear box to allow optional FTM to be used
個(gè)
 
靶材的選購(gòu)(舉例如下,實(shí)際提供的靶材規(guī)格材質(zhì)更多):
貨號(hào)
產(chǎn)品名稱
規(guī)格
3410
57mm Ø x 0.1mm,金靶
個(gè)
3411
57mm Ø x 0.1mm金/鈀靶(80/20)
個(gè)
3412
57mm Ø x 0.1mm鉑金靶
個(gè)
3413
57mm Ø x 0.1mm鎳靶
個(gè)
3414
57mm Ø x 0.1mm銀靶
個(gè)
3415
57mm Ø x 0.1mm鈀靶
個(gè)
3416
57mm Ø x 0.1mm銅靶
個(gè)
3417
57mm Ø x 0.3mm鉻靶
個(gè)
3418
57mm Ø x 0.5mm鎢靶
個(gè)
3422
57mm Ø x 0.1mm鋁靶
個(gè)

    
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