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Park XE-PPL-聚合物筆印刷
  • Park XE-PPL-聚合物筆印刷
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貨物所在地:上海上海市

更新時間:2025-04-07 21:00:08

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Polymer Pen Lithography (PPL)聚合物筆印刷是新發(fā)展起來的圖案化方法,結(jié)合了微接觸印刷和蘸筆印刷的優(yōu)點,可以實現(xiàn)低消耗、柔性的分子印刷,可能使得納米圖案化領(lǐng)域發(fā)生變革。 PPL是基于無懸臂的掃描探針印刷技術(shù),無需掩膜版即可在超平方厘米的區(qū)域內(nèi),利用彈性體的筆尖在多種材料和基底上打印10納米 到90納米 范圍內(nèi)光斑尺寸的數(shù)字化圖案。

聚合物筆印刷

Polymer Pen Lithography (PPL)聚合物筆印刷是新發(fā)展起來的圖案化方法,結(jié)合了微接觸印刷(uCP)和蘸筆印刷(DPL)的優(yōu)點,可以實現(xiàn)低消耗、柔性的分子印刷,可能使得納米圖案化領(lǐng)域發(fā)生變革。 PPL是基于無懸臂的掃描探針印刷技術(shù),無需掩膜版即可在超平方厘米的區(qū)域內(nèi),利用彈性體的筆尖在多種材料和基底上打印10nm 90nm 范圍內(nèi)光斑尺寸的數(shù)字化圖案。
當(dāng)鋒利的筆尖接觸到基質(zhì),墨水被傳遞到接觸點。
PPL是一種可以直接拼寫的技術(shù),相對于典型打印技術(shù)可以更好的地生產(chǎn)復(fù)雜的圖案,并且可以研究超材料結(jié)構(gòu)和器件的光電性質(zhì)。利用這種技術(shù),可以制備由蛋白質(zhì)等軟物質(zhì)組成的結(jié)構(gòu)陣列,在生命科學(xué)領(lǐng)域有著潛在的用途。


Park XE-PPL

解耦無弓型彎曲掃描器,使聚合物筆陣列均勻接觸,當(dāng)我們使用該系統(tǒng)掃描相當(dāng)平整的硅晶圓時,100um400um的運動范圍,曲率分別小于2nm10nm。

電動二維傾斜平臺,聚合物筆陣列的電動調(diào)平,XY傾斜角度分辨率為5urad(0.0003°),XY傾斜角度范圍為±3度。

掃描結(jié)果可以減少依賴掃描位置,無需軟件處理

提供寬廣的光學(xué)視圖,分辨率<1um,可顯示1mm×0.75mm視圖且可以移動1cm×1cm,所以可以監(jiān)測所有筆陣列區(qū)域

Z軸的長移動范圍 (25um),可以更好的控制接觸力,而且可制作圖案的尺寸范圍也很大(50nm-25un

聚合物筆印刷應(yīng)用

掃描探針嵌段共聚物印刷 (SPBCL)

光束筆印刷 (BPL)

硬尖軟彈簧印刷 (HSL)

多重模式的蛋白質(zhì)陣列

材料科學(xué)與技術(shù);納米粒子圖案化,多重納米粒子陣列,集成電路

生物和藥物學(xué):蛋白質(zhì),抗體和DNA納米陣列,可用于藥物篩選,醫(yī)學(xué)診斷,生物傳感器和生物芯片的研究





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