HG200-JS133--氟化銨腐蝕液詳細(xì)介紹
類別 | EL | CMOS | UL |
含量(NH4F),% | ±0.4 | ±0.4 | ±0.4 |
含量(HF),% | ±0.25 | ±0.25 | ±0.25 |
氟硅酸鹽(SiF6),ppm;max | 100 | 50 | 50 |
雜質(zhì)zui高含量,ppb | |||
灼燒殘?jiān)?max | 10000 | 5000 | |
氯化物(Cl),max | 4000 | 3000 | 3000 |
磷酸鹽(PO4),max | 1000 | 500 | 500 |
硫酸鹽(SO4),max | 2000 | 1500 | 1000 |
鋁(Al),max | 50 | 10 | |
銻(Sb),max | 50 | 10 | |
砷(As),max | 100 | 30 | 10 |
鋇(Ba),max | 50 | 10 | |
鈹(Be),max | 10 | ||
鉍(Bi),max | 50 | 10 | |
鎘(Cd),max | 20 | 10 | |
鈣(Ca),max | 50 | 10 | |
鉻(Cr),max | 50 | 10 | |
鈷(Co),max | 20 | 10 | |
銅(Cu),max | 100 | 20 | 10 |
鎵 (Ga),max | 50 | 10 | |
鍺(Ge),max | 10 | ||
銦(In),max | 50 | 10 | |
金(Au),max | 50 | 10 | |
鐵(Fe),max | 100 | 50 | 10 |
鉛(Pb),max | 100 | 50 | 10 |
鉑(Pt),max | 50 | 10 | |
鋰(Li),max | 50 | 10 | |
鎂(Mg),max | 50 | 10 | |
錳(Mn),max | 50 | 10 | |
鉬(Mo),max | 50 | 10 | |
鎳(Ni),max | 100 | 50 | 10 |
鉀(K),max | 100 | 50 | 10 |
銀(Ag),max | 50 | 10 | |
鈉(Na),max | 100 | 50 | 10 |
鍶(Sr),max | 10 | ||
錫(Sn),max | 50 | 10 | |
鈦(Ti),max | 50 | 10 | |
鋅(Zn),max | 50 | 10 | |
顆粒,(個/ml) | |||
≥0.5μm,max | 150 | 50 | |
≥1.0μm,max | 25 | 10 | 10 |
氟化銨的酸性溶液,無色透明,密度(25℃)1.06g/ml。呈酸性,遇熱分解。
2.用途
二氧化硅層的緩沖氧化腐蝕劑,主要用于集成電路的生產(chǎn)。
3.貯存與運(yùn)輸
酸性腐蝕品。密閉包裝,并貯存于陰涼通風(fēng)處。
UN N0:1727 CN NO:83003
4.包裝及標(biāo)志
0.5L、1L、4L、5L、20L、200L聚乙烯瓶(桶)包裝。腐蝕品。
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