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E+H恩德斯豪斯TOC分析儀

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E+H恩德斯豪斯TOC分析儀優(yōu)點
量程下限可達(dá)15 ppb
可以相關(guān)為COD值輸出
可以特別抓樣測量
有雙通道型
的自我監(jiān)測 - 遵循ISO和EPA認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)
應(yīng)用領(lǐng)域
水和污水中的TOC監(jiān)測
工業(yè)過程水的監(jiān)控
污水處理廠的出水監(jiān)測
水源和飲用水監(jiān)測
E+H恩德斯豪斯TOC分析儀甲醇劑量控制
一、濕法氧化(過硫酸鹽)- 非色散紅外探測 (NDIR)該方法是在氧化之前經(jīng)磷酸處理待測樣品 ,去除無機碳,而后測量 TOC的濃度。現(xiàn)代的TOC
連續(xù)分析儀中,絕大部分都是濕法氧化。濕法氧化對于復(fù)雜的水體(例如:腐殖酸、高分子量
化合物等)氧化不充分,所以不適用 TOC含量高的水體 ,但是對于常規(guī)水體如地表水是可以
的。
二、高溫催化燃燒氧化 - 非色散紅外探測(NDIR)
高溫催化燃燒氧化的應(yīng)用時間遠(yuǎn)比濕法氧化遲,但是因為高溫燃燒相對*,可以適用于污
染較重的江河、海水以及工業(yè)廢水等水體。
三、紫外氧化 - 非色散紅外探測 (NDIR)
其方式與濕法氧化相同,不過是采用紫外光(185nm)進(jìn)行照射的原理,在樣品進(jìn)入紫外反應(yīng)器
之前去除無機碳,得到更的結(jié)果。紫外氧化法,對于顆粒狀有機物、藥物、蛋白質(zhì)等高
含量 TOC是不適用的,但可以用于原水、工業(yè)用水等水體。
四、紫外(UV)- 濕法(過硫酸鹽)氧化 - 非色散紅外探測(NDIR)
這種方式是紫外氧化和濕法氧化兩者協(xié)同作用,相互補充,相互促進(jìn),氧化降解效果優(yōu)于其中
任何一種方法。針對紫外氧化無法用于高含量TOC水體,兩者的協(xié)同可以測量污染較重的
水體。因其適用性強、可測范圍廣泛的特點而普及度高,技術(shù)成熟。
五、電阻法
該法是近年來開始應(yīng)用的技術(shù) ,其原理是在溫度補償前提下,測量樣品在紫外線氧化前后電
阻率的差值來實現(xiàn)的。但該方法對被測量的水體來源要求比較苛刻 ,只能用相對潔凈的工業(yè)
用水和純水 ,應(yīng)用方向單一。
六、紫外法
紫外吸收光譜用于 TOC的檢測分析zui早可追溯到 1972 年 ,Dobbs 等人對于 254nm處紫
外吸光度值(A)和城市污水處理二級出水及河水的 TOC之間線性關(guān)系進(jìn)行了研究。經(jīng)過幾
十年的發(fā)展, 由于具有快速、不接觸測量、重復(fù)性好、維護(hù)量少等優(yōu)點,該方法的應(yīng)用得到
飛速發(fā)展。
七、電導(dǎo)法
該法中涉及的主要器件是電導(dǎo)池,它由參比電極、測量電極、氣液分離器、離子交換樹脂、
反應(yīng)盤管、NaOH電導(dǎo)液等組成。電導(dǎo)池的優(yōu)點是價格低、易普及 ,但穩(wěn)定性較差。
八、臭氧氧化法
利用臭氧的強氧化性,采用臭氧氧化作為TOC的檢測技術(shù),具有反應(yīng)速度快,無二次污染 ,
以及較高的應(yīng)用價值。故此方法的應(yīng)用前景非??捎^。
九、超聲空化聲致發(fā)光法
超聲化學(xué)已成為一個蓬勃發(fā)展的研究領(lǐng)域 ,聲致發(fā)光的研究已涉及到環(huán)境保護(hù)領(lǐng)域 ,我國的
相關(guān)學(xué)者在基礎(chǔ)研究和應(yīng)用研究方面做了大量的工作 ,近年來 ,這一*的方法已經(jīng)得到專
家的認(rèn)可。具有無二次污染、不需添加試劑 ,設(shè)備簡單等優(yōu)點。
十、超臨界水氧化法
適用于鹽分高的應(yīng)用,超零界水氧化(Supercritical Water Oxidation — SCWO)技術(shù)原先被用于處理大體積廢水、污泥和被污染過的土壤?,F(xiàn)被運用于商業(yè)實驗室TOC分析儀,將進(jìn)樣水的溫度和壓力提升至高于水的臨界點(375°C和3,200psi)時,有機廢物迅速被水中的氧化劑*氧化。超臨界水的特性均可以使有機碳極、快速地氧化為二氧化碳,即便存在使用非超臨界氧化方式時會造成負(fù)干擾的氯化物及其他無機物也無妨。
E+H恩德斯豪斯TOC分析儀技術(shù)參數(shù):
測量范圍:0—100,000ppm C(非稀釋狀態(tài)) ,0----5,000ppm N 。
自動進(jìn)樣,一次進(jìn)樣得6個結(jié)果:TOC/TIC/TC/NPOC/POC/TNb 。
可選全自動多孔位進(jìn)樣器、總氮(TNb)分析模塊、固體分析模塊。 測定誤差與精度 ≤1%。

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