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C-43型 9英寸高精度國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)多點(diǎn)光源曝光頭是一款專(zhuān)用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件以及聲表面波器件的研制和生產(chǎn)的優(yōu)良設(shè)備。其出色之處在于其高度優(yōu)良的找平...

玻片掃描儀廣泛應(yīng)用于病理、神經(jīng)、植物及免疫等領(lǐng)域，助力科研人員高效獲取高清圖像，提升診斷與研究準(zhǔn)確性。其優(yōu)勢(shì)在于自動(dòng)化操作減少人工誤差，高效掃描節(jié)省時(shí)間，數(shù)字存...

在金相試樣制備過(guò)程中，試樣的拋光是一道主要工序，經(jīng)過(guò)磨光的試樣，在拋光機(jī)上拋光后，可獲得光亮如鏡的表面， P-2金相試樣拋光機(jī)是一款經(jīng)典的拋光設(shè)備，它具有傳動(dòng)平...

P-2T 金相試樣拋光機(jī)在金相試樣制備過(guò)程中，試樣的拋光是一道主要工序，經(jīng)過(guò)磨光的試樣，在拋光機(jī)上拋光后，可獲得光亮如鏡的表面，P-2T型金相試樣拋光機(jī)是一款經(jīng)...

XQ-2B型金相試樣鑲嵌機(jī)適宜對(duì)于微小、不易手拿或不規(guī)則的金相、巖相試樣進(jìn)行鑲嵌，以便于對(duì)試樣進(jìn)行切割或研磨拋光，再進(jìn)行金相、光譜檢測(cè)或硬度測(cè)試。本機(jī)由程序進(jìn)行...

ZXQ-2型自動(dòng)金相試樣鑲嵌機(jī)適宜對(duì)于微小、不易手拿或不規(guī)則的金相、巖相試樣進(jìn)行鑲嵌，以便于對(duì)試樣進(jìn)行切割或研磨拋光，再進(jìn)行金相、光譜檢測(cè)或硬度測(cè)試。制樣過(guò)程中...

iqiege 1100D型金相試樣切割機(jī)適用于切割各種金屬、非金屬材料的試樣，以便觀察材料金相、巖相組織。本機(jī)帶有冷卻裝置，使用配置好的冷卻液可帶走切割時(shí)所產(chǎn)生...

iqiege 6100系列手自一體切割機(jī)是由機(jī)身、電控箱、切割室、電機(jī)、冷卻系統(tǒng)、切割砂輪片等部件組成。本系列切割機(jī)不但可以切割直徑為100mm以?xún)?nèi)的圓形工件，...

iqiege130D型金相切割機(jī)本機(jī)利用高速旋轉(zhuǎn)的薄片切割片來(lái)截取金相試樣，適宜切割較硬的金屬材料；本機(jī)有冷卻裝置，用來(lái)帶走切割時(shí)所產(chǎn)生的熱量，避免切割過(guò)程中試...

iqiege 155D型金相試樣切割機(jī)本機(jī)利用高速旋轉(zhuǎn)的薄片切割片來(lái)截取金相試樣，適宜切割較硬的金屬材料；本機(jī)有冷卻裝置，用來(lái)帶走切割時(shí)所產(chǎn)生的熱量，避免切割過(guò)...

iqiege 180D型金相試樣切割機(jī) 適用于切割各種金屬、非金屬材料的試樣，以便觀察材料金相、巖相組織。本機(jī)帶有冷卻裝置，使用配置好的冷卻液可帶走切割時(shí)所產(chǎn)生...

iqiege 265D金相切割機(jī) 切割不規(guī)則試樣材料本機(jī)適用于切割圓柱體、多角形等不規(guī)則的一般金相試樣材料，以便觀察材料金相、巖相組織。采用雙罩殼全封閉結(jié)構(gòu)?？?..

iqiege® 265Z型金相切割機(jī)本機(jī)適用于切割一般金相試樣材料，以便觀察材料金相、巖相組織。采用雙罩殼全封閉結(jié)構(gòu)?？杀ＷC使用者在較為安全狀態(tài)下進(jìn)行...

體視顯微鏡熱臺(tái)在科學(xué)研究、材料開(kāi)發(fā)等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用。它主要用于材料科學(xué)中的相變研究、陶瓷燒結(jié)、玻璃熔融等；在物理領(lǐng)域觀察熱物性；在化學(xué)領(lǐng)域研究反應(yīng)熱量變化；在...

C-43型多點(diǎn)光源曝光頭高精度國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)主要用途是在中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件和聲表面波器件的研制和生產(chǎn)中使用。C-43的出色之處在于其先進(jìn)的找平機(jī)構(gòu)，這使...

C-33型 4英寸 國(guó)產(chǎn)高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn)，找平力小、使本機(jī)適合硅片、玻璃片...

C-33型 國(guó)產(chǎn)雙面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備被廣泛應(yīng)用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、以及聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。它的高級(jí)找平機(jī)構(gòu)使其適用于各種材料的曝光，包括...

C-31型 雙面國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn)，找平力小、使本機(jī)適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片...

C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)本機(jī)針對(duì)各大專(zhuān)院校、企業(yè)及科研單位。對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機(jī)，三層減震，組合式，拆卸方便。它主要...

C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備針對(duì)各大專(zhuān)院校、企業(yè)及科研單位。對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機(jī)，三層減震，組合式，拆卸方便。它主要用于...