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GD90-RF射頻輝光放電質譜儀
GDMS技術使原子化（碎片化）過程與離子化過程分開進行，故而可容易的對ppb至ppt級別的痕量雜質進行測量。此法還使得GDMS技術擁有小的基體效應且無須特定參照材料。它可對金屬與合金進行全掃描分析，可對半導體進行整體的測量分析，可對多層結構與鍍層進行深度剖析。是包括金屬、合金、半導體以及緣體等高純材料的生產與質量控制的理想工具。
GD90-RF射頻輝光放電質譜儀主要由三部分構成：輝光放電離子源、質量分析器、檢測器。另外還包括一些輔助系統(tǒng)，如真空系統(tǒng)、離子光學系統(tǒng)、電學系統(tǒng)和數(shù)據(jù)采集控制系統(tǒng)等。而GD90-RF射頻輝光放電質譜儀具有靈活的雙離子源系統(tǒng)：直流源（DC）和射頻源（RF）。GD90-RF離子源包含直流源和射頻源，切換簡單方便，可以直接分析不同尺寸的塊狀、針狀及粉末樣品。高電離閾值材料離子源室，有效避免電離時帶來的污染。
GD90-RF射頻輝光放電質譜儀的主要特性：
1、對塊狀、針狀或粉末狀的導體或非導體樣品進行直接分析；
2、高分辨率，特別是對于有干擾離子存在的測定而言十分重要；
3、廣泛的元素涵蓋范圍，軟件中包括70個元素相關的干擾離子數(shù)據(jù)；
4、由于原子化和離子化過程發(fā)生在不同區(qū)域，帶來可忽略的基體效應；
5、低至亞ppb級的檢測限；
6、具有深度剖析能力；
7、少的樣品制備過程。
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