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德國韋氏納米系統(tǒng)有限公司

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產(chǎn)品分類品牌分類

KLA/科磊: 方塊電阻測量儀薄膜厚度測量儀表面缺陷檢測系統(tǒng) 納米壓痕儀光學輪廓儀探針式輪廓儀

薄膜測量系統(tǒng): 接觸角測量系統(tǒng) 橢偏儀光譜反射儀薄膜應力測量系統(tǒng)

微組裝系統(tǒng): WB-200 半自動引線鍵合機

Deposition沉積系統(tǒng): AT-400原子層沉積

Megasonic Clean /兆聲清洗系統(tǒng): 批量型兆聲清洗系統(tǒng)

測量儀器: 聲表面波SAW功率發(fā)生器

ECOPIA/韓國: HMS-3300霍爾效應測試儀 HMS-3000霍爾效應測試儀

Etching/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Thin Film薄膜沉積系統(tǒng): 高密度化學氣相沉積系統(tǒng) PECVD沉積

美國杜邦Dupont: 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-CMP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Etch Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 LED, TSV, & WLP Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑 Post-Patterning Cleans 光刻膠蝕刻殘留物清洗劑Emerging Cleans

Ethcing/等離子蝕刻系統(tǒng): 等離子刻蝕ICP

Probe station/探針臺: 磁體探針臺低溫探針臺

紫外掩膜對準曝光系統(tǒng): 紫外掩膜對準曝光系統(tǒng) 紫外掩膜曝光機

快速退火爐: 快速退火爐

生命科學: 人體運動能耗監(jiān)測儀

PIE scientific/美國: Semi-KLEEN Sapphire 等離子清洗機 SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機 Semi-KLEEN Quartz石英等離子體清洗機 EM-KLEEN等離子體清洗機 Tergeo-EM TEM/SEM 等離子體清洗機 Tergeo-Pro桌面等離子清洗機 Tergeo-Plus桌面等離子清洗機 Tergeo桌面等離子清洗機離子源氣體混配器多用途樣品清潔及儲存腔室 TEM 樣品架真空泵站

JFP microtechnic/法國: 檢測相機返工工作站激光疊片機 / 拆片機劃刻器 MPT手動拉力測試儀焊線機芯片鍵合機

OAI/美國: Model 32 UV LED 光源 Model 30 準直紫外光源及曝光系統(tǒng) MCP-T710 電阻儀 MCP-T380通用便攜式電阻率儀 Model 659 紫外線光強與能量計 Model 308 紫外線光度計太陽能電池高性能測試夾具太陽能功率計集成式 IV 光伏測試系統(tǒng) AML 原位對準晶圓鍵合機 CPV 聚光太陽模擬器 AAA 標準太陽模擬器 Model 6020 全自動掩模曝光機 Model 6000 生產(chǎn)型掩膜曝光機 Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機 Model 800E 紫外掩膜曝光機 Model 212 紫外掩膜曝光機 Model 200 紫外掩膜曝光機

Unitemp/德國: RSS-160-SC 緊湊型回流焊系統(tǒng) 2Z-HVS-200 高真空封裝機 2Z-HVS-100 高真空封裝機 VSS-650 真空焊接系統(tǒng) RSS-3X210 緊湊型回流焊系統(tǒng) RSO-300 真空燒結(jié)爐回流焊系統(tǒng) RSO-210 真空燒結(jié)爐回流焊系統(tǒng) VSS-450-300 臺式真空燒結(jié)爐 RSS-210-S 臺式真空燒結(jié)爐回流焊系統(tǒng) RSS-110-S 迷你真空燒結(jié)爐回流焊系統(tǒng) RSS-160-S 迷你真空燒結(jié)爐回流焊系統(tǒng)

NanoMagnetics/英國: USB 光纖干涉儀 hpSPM 掃描探針顯微鏡控制器 NMI 納米定位器 NMI 振動樣品磁力計 LT-AC/DC 臺式霍爾效應測量系統(tǒng) XYZ 低溫壓電掃描儀 mK-CFM/RAMAN 低溫顯微鏡 LT-APO 低溫物鏡 NMI 低溫恒溫器 NV-中心共聚焦低溫顯微鏡 LT-sSNOM 低溫顯微鏡 LT-SHPM/STM 低溫顯微鏡 LT-AFM/MFM 低溫顯微鏡 hpAFM 原子力顯微鏡 ezSTM 掃描隧道顯微鏡 ezAFM+ 便攜式原子力顯微鏡 ezAFM 便攜式原子力顯微鏡光霍爾效應測試儀納秒瞬態(tài)吸收光譜儀

Reflow Oven /回流焊: 高真空MEMS焊封機

EXADDON: CERES 微納米級純金屬3D打印系統(tǒng)

ANRIC: AT810 經(jīng)濟性原子層沉積設(shè)備 AT610 經(jīng)濟性原子層沉積設(shè)備 AT200M 經(jīng)濟型原子層沉積設(shè)備 AT410 經(jīng)濟型原子層沉積設(shè)備 AT650/850P 臺式等離子原子層沉積設(shè)備 AT 臭氧發(fā)生器 AT650/850T 臺式熱原子層沉積設(shè)備

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聲表面波SAW功率發(fā)生器

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聲表面波SAW功率發(fā)生器

簡化和加速聲流控實驗的一款高精度，頻率的控制器。

與以前可用技術(shù)的比較☆☆☆☆☆

聲表面波發(fā)生器目的是簡化和加速你acoustofluidic聲流控的應用

在以前的設(shè)置中，很多單儀器疊加才能被用來驅(qū)動表面聲波（SAW）致動器。

在實驗過程中

儀器之間的復雜
麻煩的切換

聲表面波SAW功率發(fā)生器

緊湊的裝置
儀器的集成
標量網(wǎng)絡(luò)分析儀
信號發(fā)生器
信號放大器
功率計
一個簡單的同時控制交叉驅(qū)動器

產(chǎn)品特征：

簡單直觀的用法

不同的掃描模式

輸出功率范圍：40uW---4W

頻率范圍：5-----215MHz

實時監(jiān)測SAW交叉驅(qū)動器的參數(shù)變化



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