三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：198500
三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開發(fā)的一款性價(jià)比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄...
單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：89700
本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。磁控濺射鍍膜儀在鍍膜時(shí)，可根據(jù)需要分別手...
大功率直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：89000
大功率直流磁控濺射鍍膜儀是一款高功率臺(tái)式磁控等離子濺射鍍膜機(jī) ，帶有一個(gè)水冷2英寸靶頭，冷水機(jī)和可旋轉(zhuǎn)樣品架。直流磁控濺射鍍膜儀設(shè)計(jì)用于涂覆直徑達(dá)4英寸的所有金...
桌面型雙靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：198000
桌面型雙靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，在保留高真空不銹鋼腔體的同時(shí)，精簡(jiǎn)了其他機(jī)構(gòu)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：168900
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制...
真空磁控鍍膜儀腔體 參考價(jià)：58000
該真空磁控鍍膜儀腔體非常適合物理沉積 (PVD)、化學(xué)沉積 (CVD)、等離子體化學(xué)沉積 (PECVD)、熱噴涂、電子束濺射等多種鍍膜
桌面型射頻磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：68900
本設(shè)備為桌面型射頻磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。本型號(hào)配備射頻電源，尤其適合...
桌面型偏壓?jiǎn)伟写趴貫R射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
本設(shè)備為桌面型偏壓?jiǎn)伟写趴貫R射鍍膜儀，可用于一般金屬薄膜的制備。設(shè)備同時(shí)配有偏壓電源，可以用來進(jìn)行進(jìn)行濺射前的等離子清洗和濺射過程中施加偏壓
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
本設(shè)備為桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：89500
本設(shè)備為桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
桌面型單靶磁控鍍膜儀（鍍鋁型） 參考價(jià)：58900
本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀（鍍鋁型）。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)高性能直流電源，具有煉靶功能，有效去...
桌面型單靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：98750
本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升...
粉體包覆機(jī)磁控濺射鍍膜機(jī) 參考價(jià)：256900
粉體包覆機(jī)磁控濺射鍍膜機(jī)是通過粉未在濺射腔室內(nèi)的旋轉(zhuǎn)，以達(dá)到粉未表面均勻包覆的效果。腔室可旋轉(zhuǎn)、傾斜，能快速出料。
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：98000
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室...
3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：198700
3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1“射頻等離子體磁控濺射系統(tǒng)，設(shè)計(jì)用于非金屬薄膜涂層，主要用于多層氧化物薄膜。緊湊型磁控濺射鍍膜儀是研究新一代氧化薄膜*具成本...
桌面型靶下置型磁控鍍膜儀 參考價(jià)：68000
本設(shè)備為桌面型靶下置型磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快...
行星式單靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：58000
本設(shè)備為桌面型行星式單靶磁控鍍膜儀，腔體下半部為不銹鋼機(jī)構(gòu)，上部為高純石英，兼顧了真空性能和容納復(fù)雜樣品臺(tái)的功能型。設(shè)備外形為桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求，...
桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：58900
桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀配有一個(gè)直流電源，可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射。單靶磁控鍍膜儀真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優(yōu)異。本設(shè)...
桌面型石英腔體單靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：32500
本設(shè)備為桌面型石英腔體單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速...
三靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：210000
三靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：356000
三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三...
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：159800
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
三靶向上磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：298000
三靶向上磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學(xué)薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀自動(dòng)控制 參考價(jià)：198000
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀自動(dòng)控制可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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