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目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>CVD氣相沉積系統(tǒng)>> CY-PECVD100-1200-QPECVD氣相沉積

PECVD氣相沉積

  • PECVD氣相沉積
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參考價(jià) 60000
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
60000
≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào) CY-PECVD100-1200-Q
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 鄭州市
屬性

>

更新時(shí)間:2024-12-17 11:51:01瀏覽次數(shù):135評(píng)價(jià)

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PECVD氣相沉積(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)是一種化學(xué)氣相沉積技術(shù),在材料科學(xué)、半導(dǎo)體制造等眾多領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。

簡單介紹:

PECVD氣相沉積在超大規(guī)模集成電路、光電器件、MEMS等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用

詳情介紹:

是化學(xué)氣相淀積的一種,其特點(diǎn)是在低溫下利用等離子體的激活作用來增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積反應(yīng)。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是沉積溫度低,沉積速率快,而且制得的薄膜具有優(yōu)良的電學(xué)性能、良好的襯底附著性以及**的臺(tái)階覆蓋性。 

應(yīng)用領(lǐng)域:

等離子增強(qiáng)CVD系統(tǒng)可以用于:石墨烯制備、硫化物制備、納米材料制備等多種試驗(yàn)場所??稍谄瑺罨蝾愃菩螤顦悠繁砻娉练eSiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜,并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應(yīng)用于刀具、高精模具、硬質(zhì)涂層、**裝飾等領(lǐng)域,在超大規(guī)模集成電路、光電器件、MEMS等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用.

PECVD氣相沉積

技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

PECVD氣相沉積

產(chǎn)品型號(hào)

CY-PECVD-500T-SS

腔體尺寸

φ500

溫區(qū)長度

200

射頻電源

500W-

溫度

1000℃-

前級(jí)泵

分子泵組

顯示類型

T

溫區(qū)

I-

水冷機(jī)

CW5200

腔體材質(zhì)

SS

樣品加熱加熱溫度

RT-1000℃以上,溫控精度:±1°C,采用控溫表進(jìn)行控溫;

可調(diào)轉(zhuǎn)速:1-20rpm可調(diào)

噴淋頭尺寸

Φ90mm,噴淋頭與樣品之間電極間距40-100mm在線連續(xù)可調(diào)(可根據(jù)工藝調(diào)整),并帶有標(biāo)尺指數(shù)顯示

樣品臺(tái)

直徑200mm

沉積工作真空

0.133-133Pa(可根據(jù)工藝調(diào)整)

頂部法蘭

可通過馬達(dá)提升,基板更換方便,有可視口

基板臺(tái)

基板臺(tái)的線性和方位角運(yùn)動(dòng),基板加熱和溫度控制,安裝臺(tái)和觸摸屏控制,基板線性運(yùn)動(dòng)是手動(dòng)控制的,基板旋轉(zhuǎn)是由直流電動(dòng)機(jī)控制的

真空腔體

前開門式,φ500mm X 500mm 不銹鋼材質(zhì)

觀察窗

φ100mm 帶擋板

質(zhì)量流量計(jì)

六路質(zhì)量流量計(jì)

氣路數(shù)量

六路

承壓范圍

-0.15Mpa~0.15Mpa

量程

0~100 SCCM(氧氣)

0~100 SCCM(CF4)

0~200 SCCM (SF6)

0~200 SCCM (氬氣)

0~500 SCCM (其他氣體空氣)

0-500sccm (其他氣體氮?dú)猓?/span>

流量控制范圍

±1.5%

氣路材料

304不銹鋼

管道接口

6.35mm卡套接頭

真空系統(tǒng)

前級(jí)泵:無油真空泵4.7L/S

分子泵:1200L/S

測(cè)量范圍

1×10-5~1×105Pa

測(cè)量精度

1×10-5~1×10-4Pa ±40%的讀數(shù)

1×10-4~1×105Pa ±20%的讀數(shù)


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