目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>二合一鍍膜儀>> CY-MS500S-2TA1S雙靶磁控及蒸發(fā)復(fù)合鍍膜儀
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦,能源,建材/家具,電子/電池,鋼鐵/金屬 |
CY-MS500S-2TA1S雙靶磁控及蒸發(fā)復(fù)合鍍膜儀可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM(掃描電鏡)的樣品制備。
設(shè)備主要由不銹鋼真空腔體、磁控濺射靶,蒸發(fā)鍍膜裝置,放置樣品的樣品臺,真空泵機組、真空測量規(guī)管,進氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。
設(shè)計特色
1. 設(shè)備主機采用觸摸顯示屏操作,溫控表檢測。其數(shù)字化參數(shù)界面和自動化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)平臺。
2. 真空室采用下置靶設(shè)計,樣品臺具有加熱和旋轉(zhuǎn)但是功能,可以使鍍膜效果更加均勻。
3. 設(shè)備真空獲得系統(tǒng)采用兩級真空泵組,前級泵為大抽速機械泵,有效縮從常壓至低真空的時間,主泵為渦輪分子泵,抽速高,真空獲取速度更快。 整體真空獲得系統(tǒng)干凈快速。
4. 真空腔體采用304不銹鋼制成,配有觀察窗口及擋板。造型美觀做工精細,真空性能優(yōu)異。
5. 主要密封法蘭采用 CF系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封,真空性能優(yōu)良,能有效保證鍍膜質(zhì)量。
技術(shù)參數(shù):
磁控濺射頭 數(shù)量 2英寸 x2 冷卻方式 水冷 蒸發(fā)系統(tǒng) 蒸發(fā)源 鎢絲籃 *高溫度 1800℃ 真空腔體 腔體尺寸 φ325mm X 600mm 觀察窗口 φ100mm 腔體材料 304不銹鋼 開啟方式 前開門式 真空系統(tǒng) 機械泵 旋片泵 抽氣接口 KF16 抽氣速率 1.1L/s 分子泵 渦輪分子泵 抽氣接口 CF150 抽氣速率 600L/s 排氣接口 KF40 真空測量 電阻規(guī)+電離規(guī) 極限真空 1.3x10-4Pa 供電電源 AC;220V 50/60Hz 電源配置 直流電源數(shù)量 1臺 輸出功率 ≤1500W 輸出電壓 ≤600W 響應(yīng)時間 <5ms 射頻電源數(shù)量 1臺 輸出功率 ≤1500W 功率穩(wěn)定度 ≤5W 射頻功率 13.56MHz 射頻穩(wěn)定度 ±0.005% 膜厚監(jiān)控系統(tǒng) 膜厚儀測量分辨率 ±0.03Hz 測量精度 ±0.5% 測量上限 50000 測量速度 100~1000ms 水冷系統(tǒng) 水箱容積 9L 流量 10L/min 供氣系統(tǒng) 流量計類型 質(zhì)量流量計 量程 200sccm 氣體類型 Ar氣 其他 供電電壓 AC220V,50Hz 整機功率 4kw(主機+真空泵) 整機尺寸 1000x950x1300mm 整機重量 295kg
樣式一:尺寸150mm,加熱溫度≤500℃ 控溫精度±1℃, 旋轉(zhuǎn)速度1-20r/min
樣式二:尺寸φ150mm,高度 上下70mm精準(zhǔn)可調(diào),旋轉(zhuǎn)速度1~20rpm,加熱溫度 0~500℃
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