本設(shè)備為大型勻膠機旋涂儀，采用大功率伺服電機，配合高精度驅(qū)動器，可實現(xiàn)對大尺寸樣品的精確勻膠實驗。
勻膠腔體采用不銹鋼材質(zhì)，美觀大方，方便清潔。并且腔體帶有閉鎖裝置，在裝入樣品后能夠閉鎖腔體，防止發(fā)生意外時樣品飛出，能夠有效保護使用者。腔體內(nèi)置排膠口，便于收集廢液。最大能支持直徑300mm厚度2.3mm的樣品。

大型勻膠機旋涂儀采用高精度驅(qū)動器，轉(zhuǎn)速分辨率可達0.2rpm。

勻膠機（又稱旋涂機）在半導(dǎo)體、光電子、材料科學(xué)等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛，主要用于在基片表面均勻涂覆光刻膠、薄膜材料等。以下是幾個典型的應(yīng)用案例和技術(shù)問題分析：

1. 半導(dǎo)體光刻工藝中的勻膠

場景：硅片上的光刻膠涂覆（如AZ 5214、SU-8等）。

問題：膠厚不均勻?qū)е鹿饪虉D形缺陷。

原因：

轉(zhuǎn)速設(shè)置不當(dāng)（初始低速鋪展 vs 高速甩膠）。

環(huán)境溫濕度變化影響膠的粘度。

基片表面清潔度不足（顆粒污染）。

解決方案：

優(yōu)化勻膠程序（如兩步法：500 rpm/5s鋪展 + 3000 rpm/30s甩膠）。

在潔凈室中操作，控制溫濕度（23±1°C，40% RH）。

使用超聲波清洗硅片并脫水烘焙（前烘）。

2. 柔性電子中的PDMS薄膜制備

場景：在PET基底上旋涂聚二甲基硅氧烷（PDMS）制備柔性傳感器。

問題：邊緣堆積（Edge Bead）或中心過薄。

原因：

PDMS粘度高，流平性差。

基底疏水性導(dǎo)致潤濕不良。

解決方案：

用等離子處理PET基底增強親水性。

添加稀釋劑（如庚烷）調(diào)節(jié)PDMS粘度。

采用低速勻膠（1000 rpm以下）并延長勻膠時間。

3. 鈣鈦礦太陽能電池的勻膠工藝

場景：旋涂鈣鈦礦前驅(qū)體溶液（如MAPbI?）制備吸光層。

問題：薄膜出現(xiàn)針孔或結(jié)晶不均勻。

原因：

溶液濃度或溶劑配比不當(dāng)（如DMF:DMSO比例）。

勻膠后未及時退火，溶劑揮發(fā)過快。

解決方案：

采用“反溶劑輔助"工藝：勻膠過程中滴加氯苯快速萃取溶劑。

優(yōu)化退火條件（100°C/10分鐘）。

4. 勻膠機的常見故障案例

故障現(xiàn)象：膠層出現(xiàn)徑向條紋。

可能原因：

勻膠機主軸振動（軸承磨損）。

膠液中含有氣泡。

解決措施：

定期維護勻膠機，更換軸承。

涂膠前對膠液進行離心脫泡（3000 rpm/1分鐘）。

5. 特殊需求案例——傾斜勻膠

場景：在非平面基底（如微透鏡陣列）上勻膠。

挑戰(zhàn)：傳統(tǒng)勻膠會導(dǎo)致厚度梯度。

創(chuàng)新方案：

使用自定義夾具固定基底，勻膠時動態(tài)調(diào)整轉(zhuǎn)速。

采用噴涂（Spray Coating）替代旋涂。

技術(shù)要點總結(jié)

工藝參數(shù)：轉(zhuǎn)速、加速度、時間需根據(jù)材料特性（粘度、揮發(fā)性）優(yōu)化。

環(huán)境控制：潔凈度、溫濕度直接影響成膜質(zhì)量。

基片處理：親/疏水改性、清潔度是關(guān)鍵。

故障排查：從設(shè)備（勻膠機穩(wěn)定性）、材料（膠液性質(zhì)）、工藝（參數(shù)匹配）三方面入手。

勻膠機技術(shù)參數(shù)：