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貨物所在地：河南鄭州市
產(chǎn)地： 鄭州
更新時(shí)間：2024-12-03 14:02:03
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臥式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備
三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶為2英寸，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購；所配電源為兩個(gè)500W直流電源，一個(gè)300W射頻電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，兩個(gè)靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。
鍍膜儀具有兩路高精度質(zhì)量流量計(jì)，客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計(jì)的氣路，以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求；儀器標(biāo)配渦輪分子泵組，極限真空可達(dá)1.0E-5Pa，同時(shí)另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個(gè)電磁閥控制，可以實(shí)現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機(jī)工控電腦對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行控制，在電腦程序上可以實(shí)現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進(jìn)一步提高您的實(shí)驗(yàn)效率。
臥式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品名稱 | 高真空三靶磁控濺射鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號(hào) | CY-MSH325-III-DCDCRF-SS | |
供電電壓 | AC220V，50Hz | |
整機(jī)功率 | 6KW | |
系統(tǒng)真空 | ≦5×10-4Pa | |
樣品臺(tái) | 外形尺寸 | φ150mm |
加熱溫度 | ≦850℃ | |
控溫精度 | ±1℃ | |
可調(diào)轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 靶材尺寸 | 直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm |
冷卻模式 | 循環(huán)水冷 | |
水流大小 | 不小于10L/Min | |
數(shù)量 | 3 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | 直徑φ325mm |
腔體材質(zhì) | SUU304不銹鋼 | |
觀察窗口 | 直徑φ100mm | |
開啟方式 | 頂開式 | |
氣體控制 | 1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM | |
真空系統(tǒng) | 配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S | |
膜厚測量 | 可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? | |
濺射電源 | 配直流電源,功率500W*2 射頻電源300W | |
控制系統(tǒng) | CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng) | |
設(shè)備尺寸 | 570mm×1040mm×1700mm | |
設(shè)備重量 | 250kg | |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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