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雙靶等離子濺射鍍膜儀(基礎(chǔ)型)
  • 雙靶等離子濺射鍍膜儀(基礎(chǔ)型)
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貨物所在地:河南鄭州市

更新時(shí)間:2025-07-24 21:00:08

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雙靶等離子濺射鍍膜儀(基礎(chǔ)型)采用二級濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。本型號儀器還配有旋轉(zhuǎn)樣品臺,能夠有效的提升鍍膜的均勻性。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。設(shè)備體積小巧造型美觀,是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。

簡單介紹:

雙靶等離子濺射鍍膜儀(基礎(chǔ)型)采用二級濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。本型號儀器還配有旋轉(zhuǎn)樣品臺,能夠有效的提升鍍膜的均勻性。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。設(shè)備體積小巧造型美觀,是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。

技術(shù)參數(shù)


產(chǎn)品名稱

雙靶等離子濺射鍍膜儀(基礎(chǔ)型)

產(chǎn)品型號

CY-PLZ180-II-DC-Q

樣 品 臺

尺寸

100mm

到靶面距離

20~35mm高度可調(diào)

等離子濺射靶

數(shù)量

2英寸x2    

冷卻方式

自然冷卻    

真空腔體

腔體尺寸

φ180mm X 200mm    

觀察窗口

全向可視

腔體材料

高純石英

開啟方式

頂蓋拆卸式

上下蓋材質(zhì)

304不銹鋼

抽氣接口

KF25

進(jìn)氣接口

1/4英寸卡套接頭

電源配置

數(shù)量

直流電源x1

輸出功率

*大150W

濺射電源

3000V

*大濺射電流

50mA

真空系統(tǒng)

真空泵類型

雙極旋片真空泵

抽氣接口

KF25

排氣接口

KF16

抽氣速率

1.1L/s(4m3/h)

極限真空度

≥1Pa

真空測量

電阻真空規(guī)

其    他

供電電源

AC 220V  50Hz

整機(jī)功率

1.5kW

整機(jī)尺寸

570mm X 450mm X500mm

整機(jī)重量

30kg




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