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CY-EVZ195-I-H-SS-多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀
  • CY-EVZ195-I-H-SS-多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀
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貨物所在地:河南鄭州市

更新時間:2025-07-24 21:00:08

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多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀設(shè)備采用前開門式真空腔體設(shè)計,腔體空間大,可拓展性強(qiáng),能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發(fā)鍍膜。腔體內(nèi)配有上置樣品臺,可根據(jù)用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。

簡單介紹:

本設(shè)備為多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀,設(shè)備采用前開門式真空腔體設(shè)計,腔體空間大,可拓展性強(qiáng),能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發(fā)鍍膜。腔體內(nèi)配有上置樣品臺,可根據(jù)用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。樣品臺可旋轉(zhuǎn)、加熱及升降,所有操作均通過觸控屏集成控制。設(shè)備的真空泵組為兩級式真空系統(tǒng),由雙極旋片真空泵和渦輪分子泵組成,可為真空鍍膜試驗(yàn)提供清潔無油的高真空的環(huán)境;真空系統(tǒng)內(nèi)含有完善的氣動閥系統(tǒng),用戶可通過觸控屏進(jìn)行一鍵式操作實(shí)現(xiàn)抽取真空、不停機(jī)取放樣、停機(jī)等操作。詳情介紹:

本設(shè)備的蒸發(fā)源共兩組,采取鎢舟蒸發(fā)源,水冷式銅電極,可*大支持300A的大電流,加熱溫度*高可達(dá)1800℃,可實(shí)現(xiàn)多種難熔金屬的蒸鍍。本設(shè)備采用一體化設(shè)計,腔體和電控部分左右分置,實(shí)現(xiàn)了水電分離,有力的保證了用戶的**。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結(jié)合的設(shè)計,真空系統(tǒng)、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作,通電蒸發(fā)、膜厚控制等通過面板獨(dú)立操作,在盡可能方便用戶的同時規(guī)避了誤操作的可能。

技術(shù)參數(shù):


多源高真空蒸發(fā)鍍膜儀

型號

CY-EVH325-Ⅱ-HH-SS

樣品臺

尺寸

*大支持φ150mm樣品

高度

上下70mm可調(diào)

蒸發(fā)源

數(shù)量

鎢舟x2

真空腔體

腔體尺寸

φ325x600mm

觀察窗口

前置φ100mm

腔體材料

304不銹鋼

開啟方式

前開門式

膜厚控制

晶振式膜厚測量儀,可選多通道膜厚控制儀

真空系統(tǒng)

前級泵

雙極旋片泵

抽氣接口

KF16

次級泵

渦輪分子泵

抽氣接口

CF160

真空測量

電阻+電離 復(fù)合真空規(guī)

排氣速率

機(jī)械泵1.1L/s 分子泵 600L/s

極限真空

1.0E-5Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

旋片泵:1.1L/S

控制系統(tǒng)

PLC自動控制  操作界面:觸控屏+操作面板

其他

供電電壓

AC380V,50Hz

整機(jī)尺寸

1000mm X900mm X 1500mm

整機(jī)重量

350kg

整機(jī)功率

5kW




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