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CY-O1200BG-Bridgman晶體生長爐
  • CY-O1200BG-Bridgman晶體生長爐
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貨物所在地:河南鄭州市

更新時間:2025-07-24 21:00:08

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Bridgman晶體生長爐配有2英寸的石英管,精密提拉機。用于在氣氛保護環(huán)境下或密封石英坩堝環(huán)境下生長小尺寸的晶體。通常采用管式結構,為3個區(qū)域(加熱區(qū)、梯度區(qū)和冷卻區(qū))。用于在氣氛保護環(huán)境下或密封石英坩堝環(huán)境下生長小尺寸的晶體。

簡單介紹:

CY-O1200X-Φ50-100×100-V-T是一款小型的1100℃Bridgman晶體生長爐,配有2英寸的石英管,精密提拉機。用于在氣氛保護環(huán)境下或密封石英坩堝環(huán)境下生長小尺寸的晶體。通常采用管式結構,為3個區(qū)域(加熱區(qū)、梯度區(qū)和冷卻區(qū))。。

Bridgeman法晶體生長過程

把晶體生長的原料裝入合適的容器中,在具有單向溫度梯度的爐內(nèi)進行生長。通常采用管式結構,為3個區(qū)域(加熱區(qū)、梯度區(qū)和冷卻區(qū))。加熱區(qū)的溫度高于晶體的熔點,冷卻區(qū)低于晶體熔點,梯度區(qū)的溫度逐漸由加熱區(qū)溫度過渡到冷卻區(qū)溫度,形成一維的溫度梯度。首先將坩堝置于加熱區(qū)進行熔化,并在一定的過熱度下恒溫一段時間,獲得均勻的過熱熔體。然后通過爐體的運動或坩堝的移動使坩堝由加熱區(qū)穿過梯度區(qū)向冷卻區(qū)運動。坩堝進入梯度區(qū)后熔體發(fā)生定向冷卻,首先達到低于熔點溫度的部分發(fā)生結晶,并隨著坩堝的連續(xù)運動而冷卻,結晶界面沿著與其運動相反的方向定向生長,實現(xiàn)晶體生長過程的連續(xù)進行。

Bridgman晶體生長爐

圖1 Bridgman法晶體生長的基本原理

(a)基本結構;            (b)溫度分布。

Bridgman法晶體生長一般分為:

垂直Bridgman法

圖1.所示)坩堝軸線與重力場方向平行,高溫區(qū)在上方,低溫區(qū)在下方,坩堝從上向下移動,實現(xiàn)晶體生長。該方法是*常見的Bridgman法,稱為垂直Bridgman法。

水平Bridgman法

水平Bridgman法其溫度梯度(坩堝軸線)方向垂直于重力場。垂直Bridgman法利于獲得圓周方向?qū)ΨQ的溫度場和對流模式,從而使所生長的晶體具有軸對稱的性質(zhì);而水平Bridgman法的控制系統(tǒng)相對簡單,并能夠在結晶界面前沿獲得較強的對流,進行晶體生長行為控制。同時,水平Bridgman法還有利于控制爐膛與坩堝之間的對流換熱,獲得更高的溫度梯度。此外,也有人采用坩堝軸線與重力場成一定角度的傾斜Bridgman法進行晶體生長。而垂直Bridgman法也可采用從上向下生長的方式。

  Bridgman晶體生長爐




技術參數(shù)

產(chǎn)品名稱

Bridgman晶體生長爐

產(chǎn)品型號

CY-O1200BG-Φ50-100×100-V-T


立式雙溫區(qū)管式爐

工作電壓:

 220V

*大功率

1.5 KW

兩個加熱區(qū)

每個加熱區(qū)長度100 mm ,總加熱區(qū)長度200 mm L

*高工作溫度

1200°C

連續(xù)工作溫度

1100°C

兩個可編程數(shù)字溫度控制器,分別控制兩個加熱區(qū)l *大溫度梯度:1oC/Cm

用戶需要探索所長晶體*合適的溫度梯度

調(diào)節(jié)兩個加熱區(qū)的溫度,來形成不同的溫度梯度

調(diào)節(jié)爐體的開啟大小,也可以改變溫度梯度

石英管(2英寸石英管(50mm O.D x 44mm I.D x 450mm L)帶有密封法蘭)


懸掛絲

鉑絲:*高可承受溫度1600

懸掛絲可穿過法蘭,若爐管內(nèi)保持正壓,可在氣氛保護環(huán)境下生長晶體

對于氧敏感材料,樣品可封裝在小的石英管內(nèi)

電機和控制

速度范圍: 0.03-90 mm/h (可調(diào)),精度:+/- 0.05%

可選購更**的提拉機構,速度為:0.4mm/h

總移動行程: 450mm

電機功率: 50W

產(chǎn)品尺寸

560mm(L) x 470mm(W) x 1235mm(H)

凈重

105公斤(230磅)


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