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貨物所在地：河南鄭州市
更新時間：2025-07-24 21:00:08
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詳情介紹：
桌面型二合一鍍膜儀可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM（掃描電鏡）的樣品制備。設備主要由石英真空室、等離子濺射靶，蒸發(fā)鍍膜裝置，放置樣品的樣品臺，真空泵機組、真空測量規(guī)管，進氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。
設備主機采用觸摸顯示屏操作，溫控表檢測。其數(shù)字化參數(shù)界面和自動化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)平臺。真空室采用上中下結構，樣品臺與靶的距離靈活可調(diào)。
設備真空獲得系統(tǒng)采用上等雙極旋片泵。 具有體積小，噪音小，無油污污染等優(yōu)點。
真空腔體采用石英加工而成，呈現(xiàn)圓柱結構，外形美觀，大方。主要密封法蘭采用 KF 系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封，真空性能優(yōu)良，能有效鍍膜質(zhì)量。
產(chǎn)品型號 | CY-EVS180G-A |
安裝條件 | 1、使用環(huán)境溫度 25℃±15℃，濕度 55%Rh±10%Rh； 2、設備供電：AC220V，50Hz，必須有良好接地； 3、額定功率：1500w； 4、設備用氣：設備腔室內(nèi)需充注氬氣清洗，需客戶自備氬氣，純度 ≥99.99%； 5、擺放工作臺尺寸要求 600mm×600mm×700mm，承重 50kg 以上； 6、擺放位置要求通風。 |
技術參數(shù) | 1、 蒸發(fā)源數(shù)量：1鎢絲籃/鎢舟 2、 適用蒸發(fā)膜料：金銀銅等不易被氧化的金屬，碳繩； 3、 等離子濺射靶數(shù)量：1x2" 4、 適用靶材：金銀銅等比重大，化學性質(zhì)穩(wěn)定的金屬；適用尺寸φ50mm x3mm 5、 蒸發(fā)源電壓：10V 6、 蒸發(fā)電流 0～100A 連續(xù)可調(diào) 7、 配 1 個鎢舟、1 個鎢絲籃； 8、 不銹鋼樣品臺,直徑為60mm；蒸發(fā)時使用樣品臺下表面及配套夾具，濺射時使用樣品臺上表面，直接將樣品放置在平面上。 9、 樣品臺距離蒸發(fā)源距離20~50mm可調(diào)。當使用濺射功能時樣品臺應和靶面距離30mm~50mm。 10、 真空腔體為石英腔體其直徑為180mm，高度為150mm； 11、 真空腔體抽氣接口為 KF25； 12、 進氣接口為 1/4 英寸雙卡套接頭，默認配不銹鋼微調(diào)閥以調(diào)節(jié)進氣量； 13、 顯示屏為7英寸彩色觸摸屏； 14、 可調(diào)節(jié)蒸發(fā)電流、濺射電流，可設置蒸發(fā)**電流值、**真空值； 15、 **保護：過流、真空過低自動切斷電流； 16、 極限真空：1Pa(搭配雙級旋片泵)； 17、 真空測量為電阻規(guī)真空計，其量程為：1～105Pa |
注意事項 | 1、對于蒸鍍對氧較敏感的材料，建議增配分子泵組。 2、為了達到較高的無氧環(huán)境，至少要用高純惰性氣體對真空腔體清洗 3 次。 |
可選配件 | |
膜厚監(jiān)測儀 | 1、膜厚分辨率：0.0136?（鋁） 2、膜厚準確度：±0.5%，取決于過程條件，特別是傳感器的位置， 材料應力，溫度和密度 3、測量速度：100ms-1s/次，可設置測量范圍：500000?（鋁） 4、標準傳感器晶體：6MHz 5、適用晶片頻率：6MHz 適用晶片尺寸：Φ14mm 安裝法蘭：CF35 |
其他配件 | 1、鎢舟、鎢絲籃； 2、CY-CZK103系列高性能分子泵組（含復合真空計，測量范圍10-5Pa~105Pa）； CY-GZK60系列小型分子泵組（含復合真空計，測量范圍10-5Pa~102Pa） VRD-4雙極旋片真空泵； 3、KF25真空波紋管；長度可選0.5m、1m、1.5m；KF25卡箍支架 4、膜厚儀晶振片； |
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