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貨物所在地：河南鄭州市
更新時間：2025-07-24 21:00:08
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簡單介紹：
離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜
用于制造各種光學(xué)元件上的增透膜、反射膜、濾光膜等。如在鏡片上鍍制增透膜可減少反射光，增加透光率，提高成像質(zhì)量；在激光反射鏡上鍍制高反射率膜，能有效提高激光的反射效率。
在新材料的研發(fā)過程中，可利用離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀制備各種新型薄膜材料，研究其物理、化學(xué)和光學(xué)等性能，為新材料的開發(fā)和應(yīng)用提供基礎(chǔ)數(shù)據(jù)支持。
該儀器可用于研究材料的表面改性、界面特性等表面科學(xué)問題。通過控制鍍膜工藝參數(shù)，制備不同結(jié)構(gòu)和性能的薄膜，深入了解材料表面與薄膜之間的相互作用，為表面工程技術(shù)的發(fā)展提供理論依據(jù)。
技術(shù)參數(shù)：
使用條件 | 環(huán)境溫度 | 5℃～40℃ |
電源 | 380V | |
功率 | ≤20KW | |
水壓 | ≤2.5bar | |
真空室尺寸 | 蒸發(fā)室尺寸 | φ500×H500(㎜) |
過渡倉庫 | φ280×H300(㎜) | |
電子槍 | 新型電子槍1套，6穴坩堝 | |
離子源 | 考夫曼離子源K08一套 | |
樣品轉(zhuǎn)盤 | 樣品尺寸：≤φ150mm，樣品可旋轉(zhuǎn)，也可上下升降調(diào)節(jié)樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設(shè)計),加熱溫度≤500℃ | |
系統(tǒng)真空度 | 極限真空 | 經(jīng)12～24小時烘烤，連續(xù)抽氣≤5x10-5Pa |
抽氣速率 | 從大氣開始40分鐘內(nèi)真空度≤5x10-4Pa | |
系統(tǒng)漏率 | 整機漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關(guān)機12小時后，測量真空室真空度≤10Pa | |
抽真空系統(tǒng) | TY1200分子泵+機械泵(VRD-30)系統(tǒng)，并設(shè)置旁路抽氣 | |
鍍膜監(jiān)測 | 采用TM160膜厚儀進行監(jiān)測 | |
鍍膜厚度的不均勻度 | ≤3% | |
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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