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簡(jiǎn)單介紹：

小型臺(tái)式單靶磁控濺射鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。

詳情介紹：

本套配置采用石英真空腔體，鍍膜過(guò)程全向可視，便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄，腔體設(shè)計(jì)開(kāi)啟方便，易于清理，十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái)，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì)，操作邏輯簡(jiǎn)單，操作界面直觀，利于上手。

• 可用于在半導(dǎo)體芯片的表面沉積金屬薄膜，如鋁（Al）、銅（Cu）等作為電極材料。這些金屬薄膜電極對(duì)于芯片內(nèi)的電流傳導(dǎo)起著關(guān)鍵作用，能夠保證芯片的電學(xué)性能，例如在制造晶體管時(shí)，為源極、漏極和柵極等結(jié)構(gòu)提供高質(zhì)量的導(dǎo)電層。

• 也可以用于沉積絕緣薄膜，如二氧化硅（SiO?）、氮化硅（Si?N?）等。這些絕緣薄膜可作為半導(dǎo)體器件中的介質(zhì)層，用于隔離不同的導(dǎo)電區(qū)域，防止電流泄漏，從而提高半導(dǎo)體器件的性能和可靠性。

技術(shù)參數(shù)：