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桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀
  • 桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀
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貨物所在地:河南鄭州市

更新時間:2025-07-24 21:00:08

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桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中,材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能,從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出 。這些氣態(tài)粒子在輸運(yùn)過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面,并在那里凝聚形核生長成固相薄膜。

桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀產(chǎn)品特點(diǎn)

高純度薄膜:由于在高真空條件下進(jìn)行,減少了氣體分子與蒸發(fā)材料的碰撞,從而能夠制備出高純度的薄膜。

**控制:蒸發(fā)鍍膜技術(shù)允許對薄膜的厚度、成分和結(jié)構(gòu)進(jìn)行**控制,這在許多高精度應(yīng)用中至關(guān)重要。
適用多種材料:蒸發(fā)鍍膜技術(shù)可以用于多種材料,包括金屬、合金、氧化物、碳化物、氮化物以及有機(jī)材料等。
高沉積速率:特別是使用電子束蒸發(fā)時,由于高能量的電子束能夠快速加熱材料,可以實(shí)現(xiàn)高沉積速率。
均勻性:通過適當(dāng)?shù)墓に噮?shù)調(diào)整,可以在大面積基底上獲得均勻的薄膜。
低損傷:由于加熱主要集中在蒸發(fā)材料上,對基底的熱影響較小,適用于熱敏材料的薄膜沉積。


桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù)

參數(shù)名稱

參數(shù)說明

產(chǎn)品名稱

桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜儀

產(chǎn)品型號

CY-EVZ254-I-H-SS

真空腔體

腔體材質(zhì)

304不銹鋼焊接而成,表面做拋光處理

取放模式

前開門方式取放樣品和蒸鍍材料

觀察窗

直徑80mm真空窗口,配有磁力擋板,防止污染

樣品臺

樣品尺寸

直徑≦100mm的平面樣品均可

旋轉(zhuǎn)速度

分不旋轉(zhuǎn)和旋轉(zhuǎn)型(0-20RPM)

加熱溫度

≦1800℃

蒸發(fā)系統(tǒng)

蒸發(fā)源

鎢絲籃或塢舟  1個

樣品臺蒸發(fā)源距離

60-100mm 可調(diào)

鍍膜方式

熱蒸發(fā)鍍膜

真空系統(tǒng)

抽氣接口:KF25/40, 排氣接口: KF16

復(fù)合真空計,電阻規(guī)+電離規(guī)

前級泵

旋片泵  抽速: 1.1L/S

分子泵

抽速: 62L/S (大阪分子泵)

膜厚測量

通常配CYKY膜厚測量儀  (可選)

也可選配進(jìn)口品牌,價格額外計算

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)功率

2KW

外形尺寸

750mm X 450mm X750mm

包裝重量

70 KG


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