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技術(shù)文章

實(shí)驗(yàn)小型管式爐產(chǎn)品分享

閱讀:39          發(fā)布時(shí)間:2025-8-15

實(shí)驗(yàn)小型管式爐是一種專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)的高溫?zé)崽幚碓O(shè)備,具有體積小、升溫快、控溫、操作靈活等特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、化學(xué)、物理、電子等領(lǐng)域的樣品制備與實(shí)驗(yàn)研究。以下是詳細(xì)解析:

一、核心結(jié)構(gòu)與特點(diǎn)

緊湊型爐體設(shè)計(jì)

尺寸小巧:爐膛長(zhǎng)度通常為200~600 mm,外徑100~200 mm,占用實(shí)驗(yàn)室臺(tái)面空間小,適合單人操作。

輕量化結(jié)構(gòu):采用鋁合金或不銹鋼外殼,重量≤50 kg,便于移動(dòng)和安裝。

雙層隔熱:內(nèi)層為高溫耐火纖維(如氧化鋁纖維),外層為隔熱棉,表面溫度≤50℃,保障操作安全。

高效加熱系統(tǒng)

加熱元件:常用硅碳棒(SiC)或硅鉬棒(MoSi?),前者升溫快(5~10℃/s),后者高溫穩(wěn)定性好(1600℃連續(xù)使用)。

爐管材質(zhì):高純度氧化鋁(Al?O?)或石英(SiO?)管,耐高溫(1600℃)且化學(xué)惰性,適用于酸堿環(huán)境。

均勻加熱區(qū):通過(guò)優(yōu)化加熱元件布局,實(shí)現(xiàn)±3℃的溫度均勻性(1000℃時(shí)),滿足小批量樣品的一致性要求。

智能控制系統(tǒng)

PID溫控儀:配合K型或S型熱電偶,實(shí)現(xiàn)±1℃的溫度精度控制,支持10~50段程序升溫(如緩慢升溫避免熱震)。

觸摸屏操作:直觀顯示溫度曲線、氣體流量等參數(shù),支持?jǐn)?shù)據(jù)存儲(chǔ)與導(dǎo)出(USB接口)。

安全保護(hù):超溫報(bào)警、斷偶保護(hù)、漏電保護(hù)三重安全機(jī)制,確保實(shí)驗(yàn)安全。

靈活的氣氛控制

氣體進(jìn)口:配備質(zhì)量流量計(jì)(MFC),jingque控制惰性氣體(Ar、N?)或還原性氣體(H?、CO)的流量(0~200 sccm)。

真空接口:可選配機(jī)械泵,實(shí)現(xiàn)10?2 Pa真空環(huán)境,適用于對(duì)氧敏感的材料(如金屬粉末、非晶合金)。

快速換氣:通過(guò)電磁閥實(shí)現(xiàn)氣體快速切換(如Ar→H?),滿足氧化-還原交替實(shí)驗(yàn)需求。

二、關(guān)鍵性能參數(shù)

參數(shù)典型值備注

高溫度1200~1600℃(根據(jù)型號(hào))硅碳棒型≤1300℃,硅鉬棒型≤1600℃

升溫速率5~20℃/min(可調(diào))硅碳棒升溫更快(約15℃/min)

恒溫區(qū)長(zhǎng)度100~400 mm適合放置直徑≤50 mm的樣品

爐管尺寸內(nèi)徑20~80 mm,長(zhǎng)度300~800 mm需根據(jù)樣品尺寸選擇

額定功率1~5 kW(220V單相電供電)實(shí)驗(yàn)室常用電源即可滿足

真空度10?2 Pa(機(jī)械泵)高真空需外接分子泵

控制方式觸摸屏+PLC(可選上位機(jī)軟件)支持遠(yuǎn)程監(jiān)控與手機(jī)APP控制


三、典型應(yīng)用場(chǎng)景

材料合成與燒結(jié)

納米材料制備:在Ar氣氛下1200℃熱解前驅(qū)體,合成高純度納米顆粒(如TiO?、SiC)。

陶瓷燒結(jié):1600℃真空燒結(jié)氧化鋁陶瓷,密度達(dá)3.9 g/cm3,適用于電子封裝基板。

金屬粉末冶金:1400℃H?還原燒結(jié)不銹鋼粉末,孔隙率<5%,用于3D打印金屬件。

催化反應(yīng)研究

催化劑載體制備:在N?氣氛下800℃煅燒γ-Al?O?,比表面積>200 m2/g,用于汽車(chē)尾氣凈化催化劑。

原位催化實(shí)驗(yàn):通過(guò)石英窗觀察催化劑在反應(yīng)氣體(如CO+O?)中的動(dòng)態(tài)變化(需配光學(xué)系統(tǒng))。

薄膜沉積與退火

化學(xué)氣相沉積(CVD):在1000℃下通入SiH?+NH?,在硅片上沉積氮化硅(Si?N?)薄膜,厚度均勻性±2%。

半導(dǎo)體退火:1200℃N?退火硅基太陽(yáng)能電池,減少缺陷密度,提高轉(zhuǎn)換效率(>22%)。

熱分析輔助實(shí)驗(yàn)

差熱分析(DTA)樣品預(yù)處理:在Ar氣氛下1000℃去除樣品中的揮發(fā)性雜質(zhì),提高DTA測(cè)試精度。

熱重分析(TGA)配套:與TGA聯(lián)用,研究材料在升溫過(guò)程中的質(zhì)量變化(如分解、氧化)。

四、選型與使用指南

選型關(guān)鍵因素

溫度需求:若需1600℃高溫,選擇硅鉬棒型;1200℃以下可選硅碳棒型(成本更低)。

氣氛控制:氧化性實(shí)驗(yàn)選空氣爐,還原性實(shí)驗(yàn)選真空/氣氛爐(需配H?報(bào)警裝置)。

樣品尺寸:爐管內(nèi)徑應(yīng)比樣品大10~20 mm,避免熱應(yīng)力集中導(dǎo)致開(kāi)裂。

操作規(guī)范

升溫前檢查:確認(rèn)爐管無(wú)裂紋、熱電偶位置正確、氣體通路暢通。

分段升溫:例如:室溫→300℃(10℃/min)→800℃(5℃/min)→目標(biāo)溫度(2℃/min),防止熱震。

降溫控制:自然冷卻至<200℃后再開(kāi)爐,避免爐管驟冷開(kāi)裂(石英管需更緩慢降溫)。

維護(hù)保養(yǎng)

定期清潔:用酒精擦拭爐管內(nèi)壁,去除氧化皮或雜質(zhì)(避免使用酸性清潔劑)。

更換熱電偶:每使用300小時(shí)檢查熱電偶精度,偏差>±3℃時(shí)更換(K型熱電偶?jí)勖s500小時(shí))。

檢查加熱元件:若升溫速度明顯下降,可能是硅碳棒氧化斷裂(表面發(fā)白),需更換。



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