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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
  • VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
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貨物所在地:浙江杭州市

地: 杭州

更新時間:2025-05-29 21:00:08

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VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

1、引言

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是新研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。

配置兩個靶槍,一個為配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,一個為配套直流電源用于導(dǎo)電類材料的濺射鍍膜;可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛;體積小,操作簡便。

2、主要技術(shù)指標(biāo)

電源:220V 50Hz

大功率:<560W(不含真空泵)

極限真空度:< E-6mbar(配合本公司設(shè)備使用可達(dá)到E-5mbar)

工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實際需要提升溫度)

靶槍數(shù)量:2個(可選配其他數(shù)量)

靶槍冷卻方式:水冷

靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)

直流濺射功率:500W(可選)

射頻濺射功率:300W/500W(可選)

載樣臺:Ø140mm

載樣臺轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)

保護(hù)氣體:Ar、N2等惰性氣體

進(jìn)氣氣路:質(zhì)量流量計控制2路進(jìn)氣,每個流量為100SCCM

尺寸:500mm×560mm×660mm

整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm

重量:160kg

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

我公司專業(yè)生產(chǎn)銷售:洛式硬度計,維式硬度計,布氏硬度計,顯微維氏硬度計,便攜式硬度計,磁力式洛式硬度計,里氏硬度計,超聲波硬度計,金相切割機,全自動金相試樣切割機,金相磨拋機,金相預(yù)磨機,金相拋光機,全自動金相試樣磨拋機,手動金相試樣鑲嵌機,全自動金相鑲嵌機。金相拋光劑,金相拋光粉,金相砂紙,金相拋光布,金相切割片,冷鑲嵌樹脂,金相鑲嵌粉,導(dǎo)電鑲嵌粉,透明鑲嵌粉,倒置金相顯微鏡,正置金相顯微鏡,進(jìn)口金相顯微鏡,體視顯微鏡,視頻顯微鏡,生物顯微鏡,熒光顯微鏡,手動影像測量儀,全自動影像測量儀,一鍵閃測儀,測量投影儀。粗糙度儀,輪廓儀,圓柱度儀。

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