采用四硼酸鋰和硝酸鋰作為熔劑熔融制備樣品 ,同時加入 Nb 和 Ta 兩種元素 ,分別作為 Zr 和 Hf 的內(nèi)標(biāo) ,通過討論各種譜線重疊干擾校正效果 ,分析比較各種內(nèi)標(biāo)校正方式 ,選擇了二次干擾曲線法并依據(jù)一定順序校正譜線重疊干擾和加內(nèi)標(biāo)元素校正基體效應(yīng) ,建立了測定氧化鋯試劑及其礦物中含量范圍較寬的氧化鋯和氧化鉿的 X 射線熒光光譜分析方法
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