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傳感器用于監(jiān)測(cè)氨氮和硝氮濃度：• 活性污泥池中• 初沉池出水口處優(yōu)勢(shì)• 經(jīng)濟(jì)可靠：– 無(wú)需昂貴的樣品預(yù)處理，直接進(jìn)行氨氮和硝氮測(cè)量– 可選鉀離子和/或氯離子測(cè)量，也可以對(duì)高濃度干擾離子 進(jìn)行補(bǔ)償– 標(biāo)配為pH 測(cè)量– 無(wú)需使用試劑，使用成本低• 應(yīng)用廣泛、靈活：量程范圍廣：0.1...1000 mg/l NH4-N 或0.1-1000 mg/l NO3-N• 操作簡(jiǎn)便、安全：– 直接安裝在池邊，無(wú)需集液器或樣品傳輸泵– 可選壓縮空氣清洗，低維護(hù)成本– 電極的維護(hù)間隔時(shí)間長(zhǎng)，約隔6 個(gè)月才需更換覆膜帽– 標(biāo)準(zhǔn)數(shù)字式通信，即插即用功能與系統(tǒng)設(shè)計(jì)測(cè)量原理覆膜是離子選擇性電極(ISE)的核心部件，用于選擇測(cè)量的離子。覆膜帶離子載體，特定種類(lèi)的離子(例如：氨氮或硝氮)可以選擇性“遷移"通過(guò)覆膜，隨后到達(dá)電極。離子遷移完成后，電荷發(fā)生變化，產(chǎn)生電位，電位值與離子濃度對(duì)數(shù)成比例關(guān)系。恒定電位的參比電極用于測(cè)量電位，并基于能斯特方程(Nernst)計(jì)算離子濃度?；?/span>電位法測(cè)原理，測(cè)量結(jié)果不受色度和濁度的影響。離子選擇性電極的測(cè)量原理示意圖參比電極 1)離子選擇性電極內(nèi)部金屬鉛絲內(nèi)部電解液(參比)隔膜內(nèi)部電解液(ISE)離子選擇性使用pH 單桿測(cè)量單元時(shí)，例如：CPS11，電極的參比端既是整個(gè)傳感器的參比電極，也是pH 電極自身的參比端。干擾物質(zhì)取決于離子選擇性電極對(duì)其離子(干擾離子)的選擇性和這些干擾離子的濃度，這些離子可能會(huì)被誤識(shí)別為測(cè)量信號(hào)的一部分，導(dǎo)致測(cè)量誤差。在污水中測(cè)量時(shí)，鉀離子和氨離子的化學(xué)屬性相似，但會(huì)導(dǎo)致更高的測(cè)量值。高濃度氯離子會(huì)導(dǎo)致硝氮測(cè)量值過(guò)高。為了減小此類(lèi)相互干擾導(dǎo)致的測(cè)量誤差，可以測(cè)量鉀或氯干擾離子濃度，并使用附加電極對(duì)此進(jìn)行補(bǔ)償。測(cè)量系統(tǒng)完整的測(cè)量系統(tǒng)包括：傳感器– 離子選擇性電極，用于氨氮、硝氮、鉀離子或氯離子測(cè)量– 溫度傳感器CTS1可選：• 安裝支座，例如 CYH112• 防護(hù)罩- 戶(hù)外安裝變送器時(shí)必須使用防護(hù)罩！• 壓縮空氣供給單元(現(xiàn)場(chǎng)無(wú)法提供壓縮空氣時(shí))濃度波動(dòng)(非絕對(duì)值)是決定性因素2) 建議：當(dāng)鉀子濃度超過(guò)40 mg/l，且在± 20 mg/l 范圍內(nèi)波動(dòng)時(shí)，使用補(bǔ)償電極。未出現(xiàn)波動(dòng)值時(shí)可以加上偏置量。3) 濃度波動(dòng)(非絕對(duì)值)是決定性因素4) 建議：當(dāng)氯離子濃度超過(guò)500 mg/l，且在± 100 mg/l 范圍內(nèi)波動(dòng)時(shí)，使用補(bǔ)償電極。未出現(xiàn)波動(dòng)值時(shí)可以加上偏置量。應(yīng)用二氧化氯用于水消毒時(shí)，應(yīng)根據(jù)操作條件要求，嚴(yán)格控制劑量。濃度過(guò)低，會(huì)影響消毒效果；濃度過(guò)高，會(huì)產(chǎn)生腐蝕效應(yīng)、破壞口感或刺激皮膚。CCS240 和CCS241 二氧化氯傳感器可用于下列場(chǎng)合中的二氧化氯測(cè)量：• 飲用水處理• 池水處理• 工業(yè)水處理優(yōu)勢(shì)• 與CCA250 流通式安裝支架配套使用時(shí)，流量高于30 l/h 時(shí)，測(cè)量不受流體流速的影響• 無(wú)需零點(diǎn)標(biāo)定也無(wú)需像開(kāi)放式二氧化氯傳感器那樣安裝復(fù)雜的活性碳過(guò)濾器• 測(cè)量值不受介質(zhì)電導(dǎo)率波動(dòng)的影響• CCS240 傳感器需要約10...30 min 的極化時(shí)間，CCS241 傳感器需要45...90 min 的極化時(shí)間，即可以直接用于測(cè)量• 預(yù)標(biāo)定的覆膜頭易于進(jìn)行覆膜更換• 恒定操作條件下的重新標(biāo)定間隔時(shí)間約為