一、3D光刻技術介紹

摩方PµSL是一種微米級精度的3D光刻技術，這一技術利用液態(tài)樹脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快 速涂層技術大大降低每層打印的時間，并通過打印平臺三維移動逐層累積成型制作出復雜三維器件。

在三維復雜結構微納加工領域，BMF Material團隊擁有超過二十年的科研經(jīng)驗，針對客戶在項目研究中可能出現(xiàn)的工藝和材料難題，我們將持續(xù)提供簡易高效的技術支持方案。

二、3D光刻技術功能介紹

*的薄膜滾刀涂層技術允許更高的打印速度，使打印速度最高提升10倍以上；

能夠處理高達20000cps的高粘度樹脂，從而生產出耐候性更強、功能更強大的零部件；

能夠打印工業(yè)級復合聚合物和陶瓷光敏材料，包括與巴斯夫合作開發(fā)的全新功能工程材料。

三、微納3D打印系統(tǒng)打印材料

通用型

丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。

工業(yè)級復合聚合物，例如高粘度樹脂、陶瓷漿料等。

個性化

高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫(yī)用樹脂等。