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蒸發(fā)鍍膜儀是微納結構制備中*的工藝設備
閱讀：370 發(fā)布時間：2021-4-28
蒸發(fā)鍍膜是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)物質，使之升華，蒸發(fā)粒子流直接射向基片，并在基片上沉積形成固態(tài)薄膜，或加熱蒸發(fā)鍍膜材料的真空鍍膜方法。
物理過程由物料蒸發(fā)輸運到基片沉積成膜，其物理過程為：采用幾種能源方式轉換成熱能，加熱鍍料使之蒸發(fā)或升華，成為具有一定能量(0.1~0.3eV)的氣態(tài)粒子(原子、分子或原子團)；離開鍍料表面，具有相當運動速度的氣態(tài)粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運到基體表面；到達基體表面的氣態(tài)粒子凝聚形核生長成固相薄膜；組成薄膜的原子重組排列或產生化學鍵合
蒸發(fā)鍍膜儀將蒸發(fā)材料放在坩堝內，坩堝放置在高真空腔體中，通過高壓燈絲發(fā)射電子，電子通過磁場偏轉轟擊到坩堝內的蒸鍍材料表面，對蒸鍍材料進行加熱，電子束蒸發(fā)源的能量可高度集中，使鍍膜材料局部達到高溫而蒸發(fā)，實現蒸發(fā)鍍膜。根據不同材料的性質分為固態(tài)升華和液態(tài)蒸發(fā)，整個蒸發(fā)過程是物理過程，實現物質從源到薄膜的轉移。裝有蒸發(fā)材料的坩堝周圍有冷卻系統(tǒng)，避免坩堝內壁與蒸發(fā)材料發(fā)生反應影響薄膜質量。通過調節(jié)電子束的功率，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率，特別適用于高熔點以及高純金屬材料，通過膜厚測量系統(tǒng)可實時精確測量蒸發(fā)速率和薄膜厚度。該設備可制備高純薄膜，是微納結構制備中*的工藝設備。