ABN-MLM-002 有掩膜光刻機是艾博納自主研發(fā)的一款高精度微納圖案轉(zhuǎn)印設(shè)備，采用高穩(wěn)定性紫外光源與優(yōu)良光學(xué)系統(tǒng)，支持接觸式和近接式多模式曝光，適用于微米及亞微米級圖案的高保真轉(zhuǎn)印。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于科研院所及中小批量半導(dǎo)體制造、MEMS 微機電系統(tǒng)、光電子器件等微納制造領(lǐng)域。

有掩膜光刻機整機配置高強度汞燈或i-line/LED光源，光強密度≥50 mW/cm2，均勻性≥90%，光強穩(wěn)定性±2%，確保圖案曝光穩(wěn)定一致。光學(xué)系統(tǒng)采用準(zhǔn)直透鏡聯(lián)合均勻化裝置和高分辨率曝光物鏡，具備≤2 μm接觸式、≤5 μm近接式的分辨能力，1:1 等倍投影精度滿足高精制程要求。

集成高倍率CCD成像系統(tǒng)與十字線疊加輔助對準(zhǔn)功能，對位精度可達 ≤2 μm；搭配高精度X/Y/Z電動平臺，重復(fù)精度優(yōu)于1 μm?？刂葡到y(tǒng)支持軟件和觸摸屏雙模式控制，曝光參數(shù)可編程設(shè)定，具備USB、RS232、Ethernet等通信接口，提升操作便捷性與系統(tǒng)兼容性。

此外，ABN-MLM-002 支持多種可選模塊，如自動掩膜更換系統(tǒng)、自動對位識別系統(tǒng)、真空吸附樣品臺、伺服納米級電控平臺等，為高效精密光刻工藝提供全面保障，是科研與產(chǎn)業(yè)橋接的重要裝備之一。