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hydac壓力傳感器ENS3216型使用要求

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hydac壓力傳感器ENS3216型使用要求


賀德克hydac壓力傳感器包括了兩個(gè)電容:一個(gè)是用于測(cè)量的測(cè)量電容Cx,另一個(gè)是用于溫度補(bǔ)償?shù)膮⒖茧娙軨o。賀德克hydac壓力傳感器當(dāng)膜片(上電極)受到壓力p 作用時(shí)發(fā)生變形,隨著壓力的增大膜片與襯底的距離逐漸縮小,賀德克hydac壓力傳感器在壓力達(dá)到接觸點(diǎn)壓力(即膜片中心接觸到絕緣層時(shí)的壓力)之前,測(cè)量電容器的電容值由非接觸電A片決定。賀德克hydac壓力傳感器半導(dǎo)體在承受壓力時(shí)禁帶寬度發(fā)生變化,導(dǎo)致載流子濃度和遷移率變化。這樣引起的電阻變化比金屬絲受壓時(shí)截面積減小引起的電阻變化要大兩個(gè)數(shù)量級(jí),因此半導(dǎo)體壓力傳感器具有高靈敏度。將 P型半導(dǎo)體與 N型半導(dǎo)體組合使用還可制成靈敏度更高的壓力傳感器。特別是傳感器的制造工藝與半導(dǎo)體集成電路平面工藝兼容, 這就滿足了賀德克hydac壓力傳感器向智能化方向發(fā)展的要求。與壓阻式壓力傳感器相比, 電容式壓力傳感器具有低溫漂、高靈敏度、低噪聲和較大的動(dòng)態(tài)范圍等顯著的優(yōu)點(diǎn)。


賀德克hydac壓力傳感器是目前*可在基底上制作亞微米精度圖形的技術(shù)。在微系統(tǒng)制造中,光刻主要用來做掩模版、體硅工藝的空腔腐蝕、表面工藝中的犧牲層薄膜的成績和腐蝕以及傳感器和致動(dòng)器觸及電信號(hào)電路的圖形化處理。它指在需要的地方通過物理或化學(xué)的方法對(duì)原有材料的去除,常被用于形成MEMS 和微系統(tǒng)中為器件的幾何形狀。賀德克hydac壓力傳感器兩種常用的腐蝕技術(shù)為濕法腐蝕和干法腐蝕。濕法腐蝕是指用稀釋的化學(xué)溶液來腐蝕基底,是將要腐蝕的基底置入具有確定化學(xué)成分和固定溫度的腐蝕液體里進(jìn)行的腐蝕。腐蝕的速率取決于基底上被腐蝕的材料和溶液中化學(xué)反應(yīng)物的濃度,以及溶液的溫度。賀德克hydac壓力傳感器干法腐蝕是利用氣體的腐蝕性,而不是利用化學(xué)藥劑和清洗法來去除基地材料。賀德克hydac壓力傳感器干法腐蝕有三種實(shí)用技術(shù):等離子刻蝕、離子 研磨以及反應(yīng)離子刻蝕法。


賀德克hydac壓力傳感器由工件幾何形狀決定了加工的工藝流程,而工藝是制約微機(jī)電系統(tǒng)器件能否達(dá)到設(shè)計(jì)要求的關(guān)鍵。還可以通過改善敏感元件、電容器的物理特性,改變傳感器的尺寸,進(jìn)一步提高傳感器的工作范圍、靈敏度等。通過測(cè)量材料應(yīng)力來測(cè)量壓力大小,它具有體積小、全動(dòng)態(tài)測(cè)量范圍的高線性度、較高的靈敏度、相對(duì)較小的滯后和蠕變的特點(diǎn),賀德克hydac壓力傳感器多采用惠斯通電橋來消除溫度影響;通過測(cè)量電容變化來測(cè)量壓力大小,相比較壓阻式的傳感器,它具有很高的靈敏度、低溫度敏感系數(shù)、沒有滯后、更高的長期穩(wěn)定性,但同時(shí)它也有更高的非線性度、更大的體積,賀德克hydac壓力傳感器需要更復(fù)雜的檢測(cè)電路和更高的生產(chǎn)成本; 通過測(cè)量頻率或頻率的微分變化來測(cè)量壓力大小,它可以通過諸如熱、電磁和靜電效應(yīng)來改變膜片頻率,并且可以通過真空封裝來提高傳感器精度;形成了包括各種微電子、微機(jī)械、微光學(xué)及各種數(shù)據(jù)處理單元的微系統(tǒng),賀德克hydac壓力傳感器其中以集成電路加工技術(shù)為基礎(chǔ)的硅基微加工技術(shù)發(fā)展迅速。


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