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X 射線熒光 (XRF) 是可用于測定多種類型樣品（包括固體、液體、漿料和疏松粉末）化學(xué)成分的分析技術(shù)。 X 射線熒光還用于確定分層和涂層的厚度和成分。 它可以分析從鈹 (Be) 到鈾 (U) 的各種元素，涵蓋從 100 wt% 到百萬分之一以下的濃度范圍。
XRF 是一種可靠的技術(shù)，結(jié)合了高精度和準(zhǔn)確性以及簡便、快速的樣品制備等優(yōu)點。 它可以在要求實現(xiàn)高處理量的工業(yè)環(huán)境下自動完成使用準(zhǔn)備，并且提供定性和定量的樣品相關(guān)信息。 這種定性和定量信息的輕松組合還使快速篩選（半定量）分析成為可能。
XRF 是一種原子發(fā)射方法，類似于光發(fā)射光譜 (OES)、ICP 和中子活化分析（伽馬光譜）。 此類方法可以測量由樣品中的帶電原子發(fā)出的“光線”（此情況下為 X 射線）的波長和強度。 在 XRF 中，來自 X 射線光管主 X 射線光束的輻照會使熒光 X 射線的輻射呈現(xiàn)出樣品中所存在元素的分散能量特征。
用于樣品 X 射線熒光光譜分離（分散）、識別和強度測量的技術(shù)催生了兩種主要類型的光譜儀：波長色散式 (WDXRF) 和能量色散式 (EDXRF) 系統(tǒng)。
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