拋光對結托槽的瓷表面粗糙度和光澤度的影響，光澤度計

探討用不同處理方法在瓷面上粘結的托槽去除后,拋光對瓷表面粗糙度和光澤度的影響。方法：甲乙兩組瓷面上的托槽經剪切去除后,用粗糙度儀和光澤度儀測定瓷面拋光前后及對照組的表面粗糙度值和光澤度值。結果：粗糙度值：拋光前相同方法中甲組比乙組均（P〈0.05），甲組各方法間無差異（P〉0.05）,乙組方法A、C間無差異（P〉0.05），方法B小于方法A、C（P〈0.05）;拋光后相同方法甲組與乙組無差異（P〉0.05）,甲、乙組內各方法之間也無差異（P〉0.05）,甲、乙組各方法都了對照組水平（P〉0.05）。光澤度值：拋光前相同方法甲組比乙組均低（P〈0.01）,甲組各方法間無差異（P〉0.05）,乙組方法A、C無差異（P〉0.05）,方法B小于方法A、C（P〈0.05）。拋光后相同方法甲組與乙組無差異（P〉0.05）,甲、乙組各方法之間均無差異（P〉0.05），甲、乙組中無論哪種方法都低于對照組（P〈0.05）。結論：機械打磨zui能影響瓷表面粗糙度和光澤度,2.5%氫氟酸對其有影響,陶瓷偶聯劑對其影響較小。光澤度雖隨著粗糙度的降低而升,但粗糙度值與光澤度值之間并無的對應關系。拋光能使托槽去除后瓷表面粗糙度對照組水平,但光澤度稍差。

可以看出，哈爾濱宇達電子技術有限公司生產的光澤度儀產品過硬，連續(xù)測量產品的光澤度的需求成為可能，光澤度計分為充電式和非充電式2種，類型豐富。