HORIBA堀場PH計在半導(dǎo)體制造設(shè)備中的應(yīng)用
HORIBA堀場PH計在半導(dǎo)體制造設(shè)備中主要應(yīng)用于純水及廢水處理環(huán)節(jié)的pH監(jiān)測與控制,通過高精度測量與穩(wěn)定性能保障工藝水質(zhì)符合生產(chǎn)要求,同時其模塊化設(shè)計和耐用性可適應(yīng)半導(dǎo)體行業(yè)對設(shè)備可靠性和環(huán)境適應(yīng)性的嚴(yán)苛標(biāo)準(zhǔn)。以下是具體應(yīng)用場景及優(yōu)勢分析:
一、核心應(yīng)用場景
1、純水制備與循環(huán)系統(tǒng)
半導(dǎo)體制造需使用超純水(電阻率≥18 MΩ·cm),水中pH值直接影響離子交換樹脂的再生效率和反滲透膜的壽命。HORIBA PH計(如HP-480型)可實時監(jiān)測純水pH,防止因酸堿度異常導(dǎo)致設(shè)備腐蝕或產(chǎn)品污半導(dǎo)體制造設(shè)備染。
2、廢水處理與排放控制
半導(dǎo)體廢水含氟化物、重金屬及有機(jī)溶劑,需通過中和反應(yīng)調(diào)節(jié)pH至合規(guī)范圍(通常6-9)后再排放。HORIBA PH計可集成于廢水處理系統(tǒng),通過自動加藥控制實現(xiàn)精準(zhǔn)中和,避免因pH波動導(dǎo)致處理不干凈或二次污染。
3、化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)工藝
CMP漿料需嚴(yán)格控pH以維持拋光液穩(wěn)定性。HORIBA筆式PH計(如PH-11/22型)可快速檢測漿料pH,確保拋光速率均勻性和晶圓表面平整度。
二、技術(shù)優(yōu)勢與行業(yè)適配性
1、高精度與穩(wěn)定性:量程覆蓋0-14pH,分辨率達(dá)0.01 pH,滿足半導(dǎo)體工藝對微量雜質(zhì)敏感的需求。
2、溫度補(bǔ)償功能:支持500Ω、6.8kΩ等多類型補(bǔ)償元件,可消除溫度對測量結(jié)果的干擾(如純水系統(tǒng)溫度波動±1℃時,pH測量誤差小于等于0.02)。
3、抗干擾與耐用性:
● 無鉛玻璃電極:采用環(huán)保材料,減少重金屬析出風(fēng)險,符合半導(dǎo)體行業(yè)對設(shè)備清潔度的要求。
● IP65防護(hù)等級(如HP-480型面板安裝設(shè)計):防塵防水,適應(yīng)潔凈室環(huán)境。
4、模塊化與易維護(hù)性
● 多電極兼容性:支持平面電極、針式電極等不同類型,可匹配半導(dǎo)體行業(yè)多樣本特性(如微量液體、高粘度漿料)。
● 自動故障診斷:HP-480型可檢測電極不對稱電位、靈敏度異常,并顯示錯誤代碼,縮短停機(jī)時間。
三、典型應(yīng)用案例
1、某12英寸晶圓廠應(yīng)用:
部署HORIBA HP-480 PH計監(jiān)測超純水系統(tǒng),實現(xiàn)pH控制精度±0.05 pH,使反滲透膜更換周期延長30%,降低企業(yè)運(yùn)行成本。
2、CMP漿料檢測:
使用PH-11筆式PH計測量0.1mL樣品,3秒內(nèi)完成讀數(shù),較傳統(tǒng)燒杯法效率提升80%,且測量重復(fù)性≤0.03 pH。
四、為何選擇HORIBA堀場?
1、微量樣品測量能力
HORIBA筆式PH計(如PH11)僅需一滴樣品即可完成測量,適用于半導(dǎo)體制造中昂貴或稀缺化學(xué)品的檢測,減少浪費并降低成本。
2、防塵防水設(shè)計
LAQUAtwin系列PH計達(dá)到IP67防護(hù)等級,可適應(yīng)半導(dǎo)體潔凈室環(huán)境,避免灰塵或液體侵入導(dǎo)致設(shè)備故障。
3、一站式解決方案
HORIBA不僅提供PH計,還整合了光譜橢圓儀、拉曼光譜儀等半導(dǎo)體分析儀器,形成從材料表征到工藝監(jiān)控的完整解決方案。例如,其橢圓偏振光譜儀可非破壞性測量薄膜厚度和光學(xué)常數(shù),與PH計數(shù)據(jù)結(jié)合,優(yōu)化沉積或蝕刻工藝參數(shù)。
在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,超純水是芯片生產(chǎn)的"血液",其純度直接影響晶圓良率與器件性能。而水質(zhì)酸堿度(pH值)作為核心參數(shù)之一,對化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)、濕法清洗、光刻膠剝離等關(guān)鍵工藝的穩(wěn)定性至關(guān)重要。HORIBA堀場憑借70余年精密測量技術(shù)積累,為半導(dǎo)體行業(yè)量身打造了全場景pH監(jiān)測解決方案,以納米級精度守護(hù)每一滴工藝用水的純凈。
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