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工藝與材料表征系統(tǒng) TriboLab CMP 返回列表頁(yè)

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產(chǎn)品型號(hào)

品牌Bruker/布魯克

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所在地上海市

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更新時(shí)間：2025-07-04 14:25:01瀏覽次數(shù)：57次

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產(chǎn)地類(lèi)別	進(jìn)口	儀器種類(lèi)	其他摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)

工藝與材料表征系統(tǒng) TriboLab CMP

核心參數(shù)

儀器種類(lèi)：多功能摩擦磨損試驗(yàn)機(jī) 最大摩擦力：200N

摩擦力分辨率：10mN 最高溫度：1000℃

簡(jiǎn)介

布魯克公司的TriboLab CMP系統(tǒng)結(jié)合了超過(guò)20年的CMP領(lǐng)域?qū)I(yè)知識(shí)，為工藝開(kāi)發(fā)提供了高精度和高重復(fù)性的解決方案。該系統(tǒng)能夠模擬廣泛的拋光條件，并具備全面的測(cè)量功能，包括摩擦力、聲發(fā)射和表面溫度等。其靈活的設(shè)計(jì)允許對(duì)各種材料和樣品尺寸進(jìn)行測(cè)試，特別適合研發(fā)階段使用，能夠在小樣品上實(shí)現(xiàn)詳細(xì)的表征，節(jié)省成本并提高效率。

TriboLab CMP 利用其前身產(chǎn)品（Bruker CP-4）超過(guò) 20 年的 CMP 領(lǐng)域?qū)I(yè)知識(shí)，為業(yè)界的 TriboLab 平臺(tái)帶來(lái)了一套完整的功能?；诒咎自O(shè)備產(chǎn)生的高精度和高可重復(fù)性使得在整個(gè) CMP 流程中能夠進(jìn)行高效的鑒別、檢查和連續(xù)功能測(cè)試。TriboLab CMP 是市場(chǎng)上能夠提供廣泛的拋光壓力（0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、聲發(fā)射和表面溫度測(cè)量的工藝開(kāi)發(fā)工具，可準(zhǔn)確、完整地描述 CMP 工藝和耗材。

用于 CMP 的小型研發(fā)規(guī)模專(zhuān)業(yè)系統(tǒng)

布魯克的TriboLab CMP工藝和材料表征系統(tǒng)是專(zhuān)為晶圓拋光工藝而設(shè)計(jì)，是具有可靠、靈活和高效的臺(tái)式設(shè)備。

重現(xiàn)全尺寸晶圓拋光工藝條件，無(wú)需在生產(chǎn)設(shè)備上停機(jī)

提供的測(cè)量可重復(fù)性和細(xì)節(jié)檢測(cè)

允許在小樣品上進(jìn)行測(cè)試，比全晶圓測(cè)試節(jié)省大量成本

板載診斷系統(tǒng)可以更好地了解拋光過(guò)程

比市場(chǎng)上任何其他系統(tǒng)提供更多的瞬態(tài)拋光過(guò)程的參數(shù)

從接觸拋光盤(pán)開(kāi)始直至整個(gè)測(cè)試過(guò)程都能收集數(shù)據(jù)

通過(guò)更完整、更詳細(xì)的數(shù)據(jù)實(shí)現(xiàn)早期流程開(kāi)發(fā)決策

具有靈活的樣品類(lèi)型、尺寸和安裝配置

拋光任何平面材料，幾乎能使用任何修正盤(pán)，任何拋光液，和任何拋光墊

輕松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圓

可同時(shí)安裝多個(gè)樣品，測(cè)試更靈活

工藝與材料表征系統(tǒng) TriboLab CMP

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