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中級(jí)會(huì)員 | 第11年

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  • CMP后清洗機(jī)-單晶圓/掩膜版兆聲清洗

    CMP后清洗機(jī)-單晶圓/掩膜版兆聲清洗：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕...

    型號(hào)： SWC4000 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 15:24:01 對(duì)比
    兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)晶圓清洗設(shè)備cmp后清洗機(jī)掩膜版清洗機(jī)
  • 單晶圓/硅片/掩膜版清洗機(jī)

    單晶圓/硅片/掩膜版清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。它可...

    型號(hào)： SWC4000 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 14:58:50 對(duì)比
    兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)晶圓清洗設(shè)備硅片清洗設(shè)備掩膜版清洗機(jī)
  • SWC4000 掩模版兆聲清洗機(jī)

    SWC4000 掩模版兆聲清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及高潔凈度的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/7/4 14:55:23 對(duì)比
    兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)晶圓清洗設(shè)備硅片清洗設(shè)備半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備
  • 兆聲清洗機(jī)

    兆聲清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該系統(tǒng)配套機(jī)械手，也可以升級(jí)...

    型號(hào)： SWC系列/LSC... 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:40:56 對(duì)比
    兆聲清洗機(jī)晶圓清洗機(jī)兆聲無(wú)損清洗設(shè)備兆聲無(wú)損清洗機(jī)
  • 硅片清洗機(jī)

    硅片清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗...

    型號(hào)： SWC系列/LSC... 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:38:33 對(duì)比
    硅片清洗機(jī)兆聲無(wú)損清洗機(jī)兆聲無(wú)損清洗設(shè)備兆聲無(wú)損硅片清洗單片晶圓清洗機(jī)
  • 進(jìn)口晶圓清洗機(jī)

    進(jìn)口晶圓清洗機(jī)：Nano-Master進(jìn)口兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、...

    型號(hào)： SWC系列/LSC... 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:36:24 對(duì)比
    進(jìn)口晶圓清洗機(jī)兆聲無(wú)損清洗機(jī)兆聲無(wú)損清洗設(shè)備進(jìn)口掩模版清洗機(jī)兆聲無(wú)損硅片清洗
  • SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)

    SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了的無(wú)損兆...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 10:29:57 對(duì)比
    兆聲無(wú)損清洗機(jī)進(jìn)口掩模板清洗機(jī)單片晶圓清洗機(jī)兆聲無(wú)損硅片清洗機(jī)兆聲無(wú)損清洗設(shè)備
  • SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī)

    SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕。該...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:33:16 對(duì)比
    進(jìn)口濕法刻蝕系統(tǒng)全自動(dòng)濕法刻蝕系統(tǒng)全自動(dòng)晶圓清洗機(jī)全自動(dòng)掩膜板清洗機(jī)全自動(dòng)硅片清洗機(jī)
  • SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)

    SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:31:00 對(duì)比
    進(jìn)口濕法刻蝕系統(tǒng)兆聲無(wú)損晶圓清洗機(jī)兆聲掩模版清洗機(jī)兆聲無(wú)損硅片清洗機(jī)
  • SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)

    SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗，以及兆聲輔助的光刻膠剝離。它可以在一...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:28:30 對(duì)比
    進(jìn)口光刻膠剝離機(jī)進(jìn)口光刻膠去膠機(jī)進(jìn)口濕法去膠機(jī)
  • SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)

    SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及的兆聲清洗，以及兆聲輔助下光刻膠剝離。它可以在一...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2025/4/28 8:26:01 對(duì)比
    光刻膠剝離系統(tǒng)進(jìn)口光刻膠剝離系統(tǒng)進(jìn)口濕法去膠機(jī)兆聲去膠機(jī)
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