超光滑表面(Ra＜0.2nm)，西格瑪光機低散亂平行平面基板/超光滑基板

日本西格瑪光機（日本SIGMAKOKI）生產(chǎn)的低散亂平行平面基板是一種專為減少基板散射影響而設(shè)計的光學(xué)元件。這類低散亂平面基板和楔形基板(OPSQSP/OPCFSP/OPMFSP/WSSQSP/WSCFSP/WSMFSP)通過特殊的拋光工藝，表面粗糙度可以控制在0.2nm（Ra）以下，因此還可稱為高平整度基板，西格瑪光機低散亂基片，OptoSigma超光滑基片和低散亂鏡片。這種精細(xì)的加工使得超光滑基板適合用于高能激光應(yīng)用中的反射鏡，以及X射線應(yīng)用中的反射鏡基板。

日本西格瑪光機低散亂基板圖示

OptoSigma西格瑪光機低散亂基片/低散亂鏡片的特點：

- 楔形基板用于希望清除分光鏡等反面反射的影響時。

- CaF2（氟化鈣），MgF2（氟化鎂）在紫外光譜區(qū)和紅外光譜區(qū)具有較高的透過性。

- 低散亂平行平面基板的表面粗糙度（微觀的凹凸）和面型精度（面整體的平坦程度）都進(jìn)行了高精度加工，基板接近理想平面。

日本SIGMAKOKI西格瑪?shù)蜕⑸浠?span style=";padding: 0px">/低散亂基片相關(guān)信息：在楔形基板最厚的地方印有指向正面的箭頭符號。

日本SIGMAKOKI西格瑪光機低散亂基板的注意事項：

- 西格瑪?shù)蜕⑸浠?低散亂基片的兩面都沒有鍍膜，玻璃表面存在2.5％?4％的反射。

- 透過楔形基板使用時，光束會有0.5°左右的傾斜。

- CaF2表面很容易受損，不能用紙擦拭，請使用清潔用壓縮氣罐去除灰塵。

- CaF2，MgF2長時間放置在高濕度的環(huán)境下時，表面會變得粗糙，不使用時，請保管在自動干燥箱等濕度較低的環(huán)境中。

日本西格瑪光機低散亂基板表面粗糙度Ra：

表示表面粗糙度的定義有JIS B0601規(guī)定，其中被頻繁使用的表面粗糙度的定義為Ra。Ra經(jīng)常以?（埃：0.1nm）單位來表示。由測量值求出平均值，從測量值中減掉平均值得到絕對值，這個絕對值的平均值為Ra，雖與均方根（RMS）近似，但是比RMS稍微小的值。

超光滑基片表面粗糙度測量裝置和測量數(shù)據(jù)（例子）：

低散亂平行平面基板/超光滑基片的功能說明圖：

低散亂平行平面基板/超光滑基片的外形圖：

Optosigma低散亂平面基板的規(guī)格參數(shù)表：