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設備特點：
自動顯影機采用隔斷式結構，電液分離，保障使用安全；
顯影采用噴淋模式，噴頭噴霧顯影，30秒顯影結束，時間短，用液少；
可使用多種液體同時或接連操作，多噴頭，儲液罐相互獨立，適用范圍廣，通用性強。
企業(yè)推出了高精度納米級3D打印設備、超快激光加工中心、無掩膜直寫光刻設備三大系列及多款光刻膠產品其中自主研發(fā)的商用納米級三維激光直寫光刻系統(tǒng)，可實現70納米精度的三維結構加工。
【主要產品】
三維微納加工/納米3D打印設備 、超快激光微納加工中心、無掩膜直寫光刻設備
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