超聲波破碎儀HX-650E擁有紫外殺菌功能，大大提高了生物環(huán)境的安全性，降低了人員感染和樣本感染交叉感染的風險；具有超溫、過載、時間報警功能，參數(shù)靈活，實驗重復性好；處理范圍廣，可選配多種型號變幅桿，滿足不同客戶的需求。而超聲波破碎儀使用后，清洗也是避免不了的。那么，使用超聲波破碎儀后，怎樣清洗呢？
1、溶劑清洗溶劑清洗，是比較傳統(tǒng)清洗的方法，清洗速度快，效率比較高，而且溶劑本身可以不斷蒸餾再生，循環(huán)使用。不過，光學玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕，均為封閉車間，溶劑的氣味對于工作環(huán)境會有一定的影響，尤其是使用不封閉的半自動清洗設備時。
2、半水基清洗半水基清洗，是在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎上進行改進而得來的，可以有效地避免溶劑的一些弱點，比如說，做到無毒、氣味輕微、廢液可排入污水處理系統(tǒng)；設備上的配套裝置少；使用周期比溶劑更長；在運行成本上也比溶劑更低。而且對于研磨粉等無機污染物半水基清洗劑也具有良好的清洗效果，極大地緩解了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力，延長了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量，降低了運行成本。
3、鍍膜前清洗 鍍膜前清洗，主要污染物是求芯油、手印、灰塵等。鍍膜工序對鏡片潔凈度的要求極為嚴格，清洗劑的選擇也是很重要的。在考慮清洗劑的清洗能力的同時，還需要考慮到腐蝕性等方面的問題。
4、鍍膜后清洗 鍍膜后清洗，一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和組裝前清洗。相較而言，接合前清洗要求嚴格。接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物，清洗難度不大，但對于鏡片表面潔凈度有非常高的要求。
