INFICON英?？?QuantusHP100 氣體分析儀

INFICON英?？?QuantusHP100 氣體分析儀

 光學(xué)氣體分析儀Quantus® HP100

實(shí)時(shí)泄漏檢測、端點(diǎn)檢測和過程監(jiān)控

INFICON Quantus HP100氣體分析儀基于自等離子體光發(fā)射光譜技術(shù)（SPOES），旨在提供半導(dǎo)體制造過程中的實(shí)時(shí)泄漏檢測、端點(diǎn)檢測和過程監(jiān)控。Quantus HP100具有出色的靈敏度，外形緊湊，提供寬廣的操作壓力范圍，無需昂貴的泵，因此非常適合大多數(shù)半導(dǎo)體工具的過程監(jiān)控和保護(hù)。

特點(diǎn)

氬氣的操作范圍為1 Torr - 450 Torr，氮?dú)獾牟僮鞣秶鸀? Torr - 120 Torr（其他氣體種類則有所不同）

低檢測限<1 ppm

使用標(biāo)準(zhǔn)KF25連接，安裝方便

快速采樣（最大20赫茲）

占地面積?。ǜ選寬x長）：6.4 x 6.0 x 8.3 in. [162 x 153 x 210 mm］

低維護(hù)，不需要泵或消耗品

方便的現(xiàn)場可更換的等離子池

為您的特殊工藝需求提供全球?qū)＜抑С?/p>

規(guī)格

操作壓力 1 Torr - 450 Torr (取決于應(yīng)用) 

  光譜儀性能 200至850納米波長（紫外-可見光） 16位全尺度分辨率，3648像素 

  檢測極限 < 1 ppm (取決于應(yīng)用) 

  曝光時(shí)間 最少1毫秒 

  真空配件 KF25 

在此下載完整的規(guī)格

下載

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應(yīng)用說明

手冊(cè)

Quantus HP100 Brochurepdf•175,4 KB•英文•手冊(cè)

手冊(cè)

3D文件

該產(chǎn)品被用于以下市場

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