主真空室

球型結(jié)構(gòu)，尺寸? 450mm

進(jìn)樣室

圓筒型立式結(jié)構(gòu)，尺寸? 150x 150mm

真空系統(tǒng)配置

主真空室

分子泵與機(jī)械泵，閥門(mén)

進(jìn)樣室

分子泵與機(jī)械泵（與主真空室共用），閥門(mén)

極限壓力

主真空室

≦6*10-6Pa（經(jīng)烘烤除氣后）

進(jìn)樣室

≦6*10-3Pa（經(jīng)烘烤除氣后）

恢復(fù)真空時(shí)間

主真空室

20分鐘可達(dá)到5*10-3Pa（系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)忾_(kāi)始抽氣）

進(jìn)樣室

20分鐘可達(dá)到5*10-3Pa（系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)忾_(kāi)始抽氣）

旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)

靶材*大尺寸約60mm；可一次安裝4塊靶材，可實(shí)現(xiàn)公轉(zhuǎn)換靶;每塊靶材可自轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分

基片加熱臺(tái)

樣品尺寸

?51

運(yùn)動(dòng)方式

基片可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分

加熱溫度

基片加熱zui高溫度800Ｃ±1  C，可控可調(diào)

氣路系統(tǒng)

質(zhì)量流量控制器1路，充氣閥1路

可選部件

激光器裝置

配相干201激光器

激光束掃描裝置

二維掃描機(jī)械平臺(tái)，執(zhí)行兩自由度掃描

計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)

控制的內(nèi)容主要有公轉(zhuǎn)換靶，靶自轉(zhuǎn)，樣品自轉(zhuǎn)、樣品控溫、激光束掃描等

設(shè)備占地面積

主機(jī)

1800 * 1800mm2

電控柜

700 *700mm2（1個(gè)）