目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>電子束，激光鍍膜儀>> CY-EB電子束蒸發(fā)鍍膜儀
電子束蒸發(fā)鍍膜儀設(shè)備用途：
用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等，廣泛應用于大專院校、科研機構(gòu)的科研及小批量生產(chǎn)。
電子束蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
| 結(jié)構(gòu)形式 | 真空室采用U型箱體前開門，后置抽氣系統(tǒng) | |
| 真空室 | 500×500×600mm2 | |
| 真空系統(tǒng)配置 | 復合分子泵、機械泵、閘板閥 | |
| 極限壓力 | ≤6. 67×10-5Pa (經(jīng)烘烤除氣后）； | |
| 恢復真空時間 | 45分鐘可達到6. 67×10-4Pa (系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥 氮氣后） | |
|
電子束 蒸發(fā)源 | e型電子槍 | 陽極電壓：6kv、8kv; |
| 數(shù)量（套） | 1 | |
| 坩堝 | 水冷式坩堝，四穴設(shè)計，每個容量11ml | |
| 功率 | 0一6 KW可調(diào) | |
| 電阻蒸發(fā)源 (可選） | 電壓 | 5、10V |
| 功率 | 電流300A，*大輸出功率3KW | |
| 數(shù)量 | 1套，可切換 | |
| 水冷電極 | 3根，組成2個蒸發(fā)舟 | |
| 工件架類型及尺寸 | 基片尺寸：可放置4"基片，加熱zui高溫度800℃±1℃ ,基片可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分 基片與蒸發(fā)源之間距離300~350mm可調(diào)，手動控制樣品擋板組件1套 | |
| 氣路系統(tǒng) | 200SCCM質(zhì)量流量控制器1路 | |
| 石英晶振膜厚控制儀 | 監(jiān)測膜厚顯示范圍：0~99 u 9999A; | |
| 設(shè)備占地面積 | 主機 | 900×800mm2 |
| 電控柜 | 800×800mm2 (兩個） | |
1
化工儀器網(wǎng)