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1.設(shè)備名稱(chēng)：平行光曝光設(shè)備HTE-510-EHC(1Kw)

2.裝置簡(jiǎn)介：本裝置采用點(diǎn)光源超高壓汞燈作為光源。準(zhǔn)直鏡系統(tǒng)的平行光曝光裝置。主要結(jié)構(gòu)由“光源部分”、“吸附式曝光臺(tái)部分”等組成，曝光方式有真空貼合式（硬接觸）和墊片接近式（非接觸式）。為了管理曝光量，配備了“積分光量計(jì)”，可以以適當(dāng)?shù)钠毓饬窟M(jìn)行曝光。是帶支架的緊湊設(shè)計(jì)的裝置。

3.設(shè)備規(guī)格
①光源（燈）：超高壓汞燈1Kw（風(fēng)冷式）
②曝光面積：150mm x 150mm（最大）
③光學(xué)部分組成：
1）橢圓聚光鏡
2）平面鏡（1）、（2）
3）積分器透鏡單元
4）準(zhǔn)直鏡
5)濾光片插入機(jī)構(gòu)（手動(dòng)切換方式）
□請(qǐng)另外準(zhǔn)備90mm、2mm厚的濾光片。

4.曝光快門(mén)：基于氣動(dòng)快門(mén)的開(kāi)關(guān)方式

5.曝光量管理：基于積分光度計(jì)（管理波長(zhǎng)365nm），具有20通道存儲(chǔ)功能

6.面罩：玻璃面罩152 x 152 x t3.0mm
127 x 127 x t2.3mm
127毫米使用掩模適配器

7.工件：100mm x 100mm厚度約0.1~1.0 mm

8.曝光臺(tái)：吸附式臺(tái)
吸附工件后，將玻璃掩模放置在曝光臺(tái)上。

9.光學(xué)性能：波長(zhǎng)約300~470nm 9.光學(xué)性能：波長(zhǎng)約300~470nm

（主波長(zhǎng)365nm、405nm、436nm）

平行度準(zhǔn)直半角≤1.5°
偏角≤1.0°
：紫外線照度約40mW/cm^2初始值(@365nm)
*使用ORC制造的UV-M03測(cè)量?jī)x器
：照度分布90%以上

10.實(shí)用程序：1)電源三相200V(50/60Hz)
斷路器開(kāi)關(guān)30A
10.5 KVA
2)壓縮空氣約0.5 MPa
3）所需排氣量約8m^3/min

11.圖紙：圖號(hào)310305外觀圖*帶框架 11.圖紙：圖號(hào)310305外觀圖*帶框架
圖號(hào)310306代理SIM機(jī)構(gòu)說(shuō)明圖

12.飾面：外部烤漆飾面 12.飾面：外部烤漆飾面
內(nèi)飾烤漆、耐熱處理飾面

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