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桂寧(上海)實驗器材有限公司
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  • 平行光露光裝置

    本裝置是以點(diǎn)光源超高壓汞燈為光源的準(zhǔn)直鏡式平行光曝光裝置。主要結(jié)構(gòu)由光源部、吸附式曝光臺部、掩模部組成,曝光方式為接觸式和接近式曝光方式。為了曝光管理,還搭載了...

    型號: HTE-510-E... 所在地:上海市參考價: 面議更新時間:2025/8/14 19:30:03 對比
    平行光露光裝置進(jìn)口平行光露光裝置
  • 平行光曝光設(shè)備

    本裝置采用點(diǎn)光源超高壓汞燈作為光源。準(zhǔn)直鏡系統(tǒng)的平行光曝光裝置。主要結(jié)構(gòu)由“光源部分"、“吸附式曝光臺部分"等組成,曝光方式有真空貼合式(硬接觸)和墊片接近式(...

    型號: HTE-510-E... 所在地:上海市參考價: 面議更新時間:2025/8/14 19:24:27 對比
    平行光曝光設(shè)備平行光露光裝置
  • 小型摩擦裝置

    用于LCD配向研究的實驗室摩擦機(jī)

    型號: MRM-100 所在地:上海市參考價: 面議更新時間:2025/8/14 19:15:22 對比
    實驗室摩擦機(jī)小型摩擦裝置
  • 阻抗分析儀

    阻抗分析儀IM3570是一款高速、高精度的阻抗分析儀,可用于從生產(chǎn)線到研發(fā)的廣泛領(lǐng)域。頻率/電平掃描測量速度最快可達(dá)0.5 ms/點(diǎn),重復(fù)精度比傳統(tǒng)產(chǎn)品提高了個...

    型號: IM3570 所在地:上海市參考價: 面議更新時間:2025/8/14 19:09:47 對比
    阻抗分析儀IM3570IM3570阻抗分析儀
  • 臺式 UV-臭氧清洗改質(zhì)裝置

    本裝置利用低壓紫外線燈照射,在大氣中產(chǎn)生臭氧,用于清除有機(jī)薄膜表面的污垢。同時,通過短波長紫外線的活性作用,對難粘接塑料表面進(jìn)行改性,從而提高膠粘劑、涂料、涂層...

    型號: PL16-110 所在地:上海市參考價: 面議更新時間:2025/8/14 18:59:14 對比
    臭氧清洗改質(zhì)裝置清洗改質(zhì)裝置臭氧清洗裝置進(jìn)口臭氧清洗改質(zhì)裝置
  • 清潔烤箱

    這是一款采用HEPA過濾器與前方吹出型水平層流循環(huán)方式的潔凈烘箱,通過高溫風(fēng)在箱體內(nèi)均勻循環(huán),始終保持相當(dāng)于潔凈度100級的潔凈環(huán)境。

    型號: PVC-212M 所在地:上海市參考價: 面議更新時間:2025/8/14 18:54:54 對比
    清潔烤箱潔凈烘箱進(jìn)口潔凈烘箱EHC潔凈烘箱
  • 紫外線偏振曝光裝置

    該紫外線照射光源采用氙燈作為光源,使用紫外線冷鏡和光學(xué)集成商,是一種均勻性良好的光源,僅選擇特定偏轉(zhuǎn)光進(jìn)行照射的光源裝置。

    型號: HC-300PUF... 所在地:上海市參考價: 面議更新時間:2025/8/14 18:35:19 對比
    紫外線偏振曝光裝置偏振曝光裝置

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