EDI模塊18兆歐去離子超純水設(shè)備 參考價(jià)：面議
實(shí)驗(yàn)室用純水機(jī)也叫離子水發(fā)生器，主要用于清洗各種器皿，樣品。
超聲波極耳金屬點(diǎn)焊實(shí)驗(yàn)設(shè)備 參考價(jià)：面議
通用于卷繞和疊片工藝的金屬焊接，它體積小、外形美觀、操作方便、結(jié)構(gòu)牢固、使用穩(wěn)定**等特點(diǎn)。 換能器把超聲頻大功率振蕩信號(hào)，變換成相應(yīng)頻率的機(jī)械能，施加到需要焊...
迷你石墨烯CVD設(shè)備 參考價(jià)：面議
迷你石墨烯CVD設(shè)備專為石墨烯生產(chǎn)設(shè)計(jì)配有高精度質(zhì)量流量計(jì)以及薄膜真空規(guī)。迷你石墨烯CVD設(shè)備同時(shí)設(shè)備配有可燃?xì)怏w檢測裝置，聯(lián)動(dòng)出氣口電磁閥，一旦出現(xiàn)泄漏電磁閥...
1200℃高真空迷你CVD設(shè)備 參考價(jià)：面議
1200℃高真空迷你CVD設(shè)備核心是一款迷你管式爐，采用電阻絲加熱。1200℃高真空迷你CVD設(shè)備包含一臺(tái)三路浮子流量計(jì)，一臺(tái)分子泵組，分別構(gòu)成了CVD的進(jìn)氣和...
四通道石墨烯制備設(shè)備 參考價(jià)：面議
CY-O1200-80-4ZV10四通道石墨烯制備設(shè)備除了用于實(shí)驗(yàn)室制備石墨烯外，還可廣泛用于各種反應(yīng)溫度在1100℃左右的CVD實(shí)驗(yàn)；也可用于：真空燒結(jié)、真空...
熱絲化學(xué)氣相沉積（HFCVD）金剛石涂層設(shè)備 參考價(jià)：面議
熱絲化學(xué)氣相沉積（Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD）擁有工藝成熟，設(shè)備簡單等諸多優(yōu)點(diǎn)，是工業(yè)上應(yīng)用*多的...
CVD培育鉆石設(shè)備 參考價(jià)：面議
CVD培育鉆石是一種由直徑10到30納米鉆石晶體合成的多結(jié)晶鉆石，它的化學(xué)成分為碳，運(yùn)用的設(shè)備模擬大自然中鉆石生長環(huán)境，通過化學(xué)氣象沉積技術(shù)（CVD）栽種而成
MPCVD單晶鉆石沉積設(shè)備 參考價(jià)：面議
化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)單晶鉆石，化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶鉆石自支撐厚膜，化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶鉆石薄膜
熱陰極直流等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備（DCCVD） 參考價(jià)：面議
熱陰極直流等離子體化學(xué)氣相沉積設(shè)備（DCCVD）是在常規(guī)冷陰極輝光放電基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，主要用于金剛石單晶或多晶膜的沉積生長
PECVD-R?旋轉(zhuǎn)等離子加強(qiáng)CVD設(shè)備 參考價(jià)：面議
本產(chǎn)品為PECVD-R?旋轉(zhuǎn)等離子加強(qiáng)CVD設(shè)備。PECVD-R?旋轉(zhuǎn)等離子加強(qiáng)CVD設(shè)備十分適合在氣氛保護(hù)的環(huán)境下連續(xù)對粉末材料用CVD方法進(jìn)行包裹和修飾。
激光鍍膜設(shè)備 參考價(jià)：面議
激光鍍膜設(shè)備系統(tǒng)由真空腔室（主濺射室、進(jìn)樣室）、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計(jì)算機(jī)控制等各部分組成。激光鍍膜設(shè)備廣泛應(yīng)用...
晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設(shè)備 參考價(jià)：面議
晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設(shè)備包括三溫區(qū)管式爐，特殊設(shè)計(jì)的爐管及配套氣路一組，晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設(shè)備通過特殊設(shè)計(jì)的管路，能夠?qū)⒎磻?yīng)氣體均勻的釋放...
R-PECVD?真空旋轉(zhuǎn)等離子增強(qiáng)CVD設(shè)備 參考價(jià)：面議
R-PECVD真空旋轉(zhuǎn)等離子增強(qiáng)CVD設(shè)備由旋轉(zhuǎn)及傾斜機(jī)構(gòu)、單溫區(qū)管式爐、等離子發(fā)生機(jī)構(gòu)、質(zhì)量流量計(jì)供氣系統(tǒng)、高真空分子泵組部分構(gòu)成。R-PECVD真空旋轉(zhuǎn)等離...
PLD脈沖激光濺射沉積設(shè)備 參考價(jià)：面議
該P(yáng)LD脈沖激光濺射沉積設(shè)備系列設(shè)備主要用于生長光學(xué)晶體、鐵電體、鐵磁體、超導(dǎo)體和有機(jī)化合物薄膜材料，尤其適用于生長高熔點(diǎn)、多元素及含有氣體元素的復(fù)雜層狀超晶格...
二維硫化鉬生長設(shè)備 參考價(jià)：面議
二維硫化鉬生長設(shè)備由預(yù)熱爐、反應(yīng)爐，真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)以及軌道支架五部分組成。二維硫化鉬生長設(shè)備前端配的預(yù)熱爐能夠用來預(yù)熱蒸發(fā)固態(tài)源，反應(yīng)爐能夠提供反應(yīng)所需的熱...
火焰輔助噴霧熱解設(shè)備 參考價(jià)：面議
火焰輔助噴霧熱解設(shè)備用于研究金屬合金和陶瓷的表面質(zhì)量。 噴霧熱解是通過在加熱的表面上霧化和噴霧溶液來沉積薄膜的過程，其中組分反應(yīng)形成化合物。在火焰輔助噴霧熱解中...
40K等離子清洗機(jī) -等離子表面清潔處理設(shè)備 參考價(jià)：面議
等離子清洗機(jī)(plasma cleaner)，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)...
等離子表面處理儀 參考價(jià)：面議
等離子表面處理儀是一款用于表面處理的緊湊型大氣等離子體射流（所謂的等離子束，等離子筆）系統(tǒng)，由射頻發(fā)生器，柔性氣體輸送管和等離子束頭組成。等離子體射流可以在沒有...
等離子濺射蒸發(fā)二合一鍍膜儀 參考價(jià)：面議
CY-EVS180G-LV二合一鍍膜儀，可用于電子產(chǎn)品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實(shí)驗(yàn)室SEM（掃描電鏡）的樣品制備。設(shè)備主要由石英真空室、等離...
等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀 參考價(jià)：面議
等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質(zhì)的薄膜。儀器元件高度集成化...
等離子濺射和碳蒸發(fā)二合一鍍膜儀 參考價(jià)：面議
等離子濺射和碳蒸發(fā)二合一鍍膜儀是一款二合一緊湊型涂層裝置，配有雙級旋轉(zhuǎn)葉片真空泵，可將等離子濺射和蒸發(fā)集成到一臺(tái)小型機(jī)器中。等離子濺射和碳蒸發(fā)二合一鍍膜儀專門用...
碳鎢蒸發(fā)等離子濺射復(fù)合鍍膜儀 參考價(jià)：面議
碳鎢蒸發(fā)等離子濺射復(fù)合鍍膜儀可進(jìn)行真空蒸碳、真空熱蒸發(fā)和等離子濺射，它也可以在高純氬氣的保護(hù)之下進(jìn)行多種離子處理，碳鎢蒸發(fā)等離子濺射復(fù)合鍍膜儀采用機(jī)械泵和分子泵...
電弧熔煉爐帶電磁攪拌功能 參考價(jià)：面議
本品是一款小型真空電弧熔煉爐，采用鎢電極和水冷銅坩堝。設(shè)備熔煉溫度可超過 3000℃，且降溫迅速。采用不銹鋼水冷腔體，配有觀察窗口和照明窗口，可觀測樣品熔煉情況...
便攜式煙氣濕度儀 參考價(jià)：面議
便攜式煙氣濕度儀采用便攜式設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)緊湊，體積小巧，攜帶方便。便攜式煙氣濕度儀采用進(jìn)口電容式傳感器，具有響應(yīng)速度快、測量精度高的特點(diǎn)。(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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